[发明专利]一种具有全光谱响应特性的光催化薄膜在审
| 申请号： | 201710188506.3 | 申请日： | 2017-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN108654600A | 公开（公告）日： | 2018-10-16 |
| 发明（设计）人： | 辛云川;曹逊;李荣;纪士东;包山虎;金平实 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海硅酸盐研究所 |
| 主分类号： | B01J23/30 | 分类号： | B01J23/30;B01J35/02;C01B3/04;C02F1/30;C02F1/32 |
| 代理公司： | 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 | 代理人： | 曹芳玲;郑优丽 |
| 地址： | 200050 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光催化薄膜 钨青铜 碱金属 响应特性 全光谱 无机物 空穴 可见光照射 薄膜表面 电子迁移 紫外光 有机物 附着 制备 还原 污染物 激发 | ||
【权利要求书】：
1.一种具有全光谱响应特性的光催化薄膜，其特征在于，所述光催化薄膜包括碱金属钨青铜，所述碱金属钨青铜的化学式为 MWO3-x，其中M为Li、Na、K、Cs中的至少一种，0≤x＜1。
2.根据权利要求1所述的光催化薄膜，其特征在于，所述M为Li、Na、K、Cs中的至少两种，优选为Li、Na、K、Cs中的两种。
3.根据权利要求1或2所述的光催化薄膜，其特征在于，所述光催化薄膜的厚度至少10nm，优选为10～100 nm。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的光催化薄膜，其特征在于，所述光催化薄膜在紫外光、可见光、和红外光照射下，均能产生光催化效果。
5.一种如权利要求1-4中任一项所述具有全光谱响应特性的光催化薄膜的方法，其特征在于，包括磁控溅射法，旋涂法，离子喷涂法、化学气相沉积法或涂布法。
6.一种如权利要求1-4中任一项所述的具有全光谱响应特性的光催化薄膜在光催化降解污染物中的应用。
7.一种如权利要求1-4中任一项所述的具有全光谱响应特性的光催化薄膜在光催化分解水中的应用。
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