[发明专利]导电性支持体、电子照相感光体和图像形成装置在审
申请号: | 201710182531.0 | 申请日: | 2017-03-24 |
公开(公告)号: | CN107664931A | 公开(公告)日: | 2018-02-06 |
发明(设计)人: | 奥田紫织;小川宽晃;中村章彦 | 申请(专利权)人: | 富士施乐株式会社 |
主分类号: | G03G5/10 | 分类号: | G03G5/10 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人: | 庞东成,龚泽亮 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 导电性 支持 电子 照相 感光 图像 形成 装置 | ||
1.一种电子照相感光体用导电性支持体,所述导电性支持体包括金属圆筒部件,所述电子照相感光体用导电性支持体的特征在于,
即使在所述导电性支持体上设置感光层后,所述导电性支持体仍具有暴露的裸露区域,并且所述裸露区域的至少一部分的外周面的表面残余应力为约-10MPa以下。
2.根据权利要求1所述的电子照相感光体用导电性支持体,其中,
所述外周面的所述表面残余应力为约-30MPa以下。
3.根据权利要求1所述的电子照相感光体用导电性支持体,其中,
所述外周面的所述表面残余应力为约-70MPa以上。
4.根据权利要求1所述的电子照相感光体用导电性支持体,其中,
所述导电性支持体由含铝金属制成。
5.根据权利要求1所述的电子照相感光体用导电性支持体,其中,
即使设置所述感光层后仍暴露的所述裸露区域的所述至少一部分的所述外周面的所述表面残余应力在所述外周面的整个周面为约-10MPa以下。
6.根据权利要求5所述的电子照相感光体用导电性支持体,其中,
所述外周面的所述表面残余应力为约-30MPa以下。
7.根据权利要求5所述的电子照相感光体用导电性支持体,其中,
所述外周面的所述表面残余应力为约-70MPa以上。
8.根据权利要求5所述的电子照相感光体用导电性支持体,其中,
所述导电性支持体由含铝金属制成。
9.一种电子照相感光体,其特征在于,包括:
导电性支持体,其包括金属圆筒部件;以及
感光层,其设置在所述导电性支持体上,
其中,所述导电性支持体具有裸露区域,并且所述裸露区域的至少一部分的外周面的表面残余应力为约-10MPa以下。
10.根据权利要求9所述的电子照相感光体,其中,
所述外周面的所述表面残余应力为约-30MPa以下。
11.根据权利要求9所述的电子照相感光体,其中,
所述外周面的所述表面残余应力为约-70MPa以上。
12.根据权利要求9所述的电子照相感光体,其中,
所述导电性支持体由含铝金属制成。
13.根据权利要求9所述的电子照相感光体,其中,
所述裸露区域的所述至少一部分的所述外周面的所述表面残余应力在所述外周面的整个周面为约-10MPa以下。
14.根据权利要求13所述的电子照相感光体,其中,
所述外周面的所述表面残余应力为约-30MPa以下。
15.根据权利要求13所述的电子照相感光体,其中,
所述外周面的所述表面残余应力为约-70MPa以上。
16.根据权利要求13所述的电子照相感光体,其中,
所述导电性支持体由含铝金属制成。
17.一种图像形成装置,其特征在于,包括:
根据权利要求9至权利要求16的任一项所述的电子照相感光体;
接触部件,其与所述电子照相感光体的所述导电性支持体的所述外周面的某个区域直接接触,所述区域的表面残余应力为约-10MPa以下;
充电单元,其对所述电子照相感光体的表面进行充电;
静电潜像形成单元,其在已充电的所述电子照相感光体的表面上形成静电潜像;
显影单元,其利用含有色调剂的显影剂使在所述电子照相感光体的所述表面上形成的所述静电潜像显影以形成色调剂图像;以及
转印单元,其将所述色调剂图像转印至记录介质的表面。
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