[发明专利]一种高阻隔性双键功能化氧化石墨烯/聚乙烯薄膜及其制备方法有效
| 申请号: | 201710165292.8 | 申请日: | 2017-03-20 |
| 公开(公告)号: | CN106832534B | 公开(公告)日: | 2020-02-11 |
| 发明(设计)人: | 戴李宗;曾碧榕;罗宇峰;袁丛辉;陈国荣;许一婷;罗伟昂 | 申请(专利权)人: | 厦门大学;厦门金汇峰新型包装材料股份有限公司 |
| 主分类号: | C08L23/06 | 分类号: | C08L23/06;C08L23/08;C08K9/06;C08K3/04;C08K5/11;C08K5/103;C08K5/55;B29C55/14;B29L7/00 |
| 代理公司: | 35204 厦门市首创君合专利事务所有限公司 | 代理人: | 张松亭;秦彦苏 |
| 地址: | 361000 *** | 国省代码: | 福建;35 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 阻隔 双键 功能 氧化 石墨 聚乙烯 薄膜 及其 制备 方法 | ||
1.一种高阻隔性双键功能化氧化石墨烯/聚乙烯薄膜,其特征在于:所述薄膜按质量份数计,包括低密度聚乙烯90~98.5份,双键功能化氧化石墨烯0.1~5份,增塑剂0.5~2.5份,抗静电剂0.5~2.5份;
所述双键功能化氧化石墨烯的通式为R1-CH=C(R2)-Si(R3)(R4)-(O)n-GO;其中,R1=H,-CH3或-CH2CH3;R2=H,-CH3;R3=-CH3,-CH2CH3,-OCH3,-OCH2CH3;R4=-OCH3,-OCH2CH3;n=1或2:
该双键功能化氧化石墨烯的结构式如下式所示:
R1-CH=C(R2)-Si(R3)(R4)-(O)n-GO;R1=H,-CH3 or-CH2CH3;R2=H,-CH3;R3=-CH3,-CH2CH3,-OCH3,-OCH2CH3;R4=-OCH3,-OCH2CH3;n=1 or 2
所述薄膜由双向拉伸工艺制备所得,纵横拉伸倍数均为4,薄膜厚度25μm;或纵横拉伸倍数均为3,薄膜厚度35μm;或3倍数的纵向拉伸、2倍数的横向拉伸,薄膜厚度45μm;或纵横拉伸倍数均为2,薄膜厚度55μm;或2倍数的纵向拉伸、1.5倍数的横向拉伸,薄膜厚度65μm;
制备方法包括如下步骤:
2-1)按质量份数计,将各组分进行投料、混合,在105~120℃温度下造粒,干燥,得到聚乙烯功能粒料;
2-2)将步骤2-1)中得到的聚乙烯功能粒料在170~190℃下熔融、塑化后挤压成片状流体,再经表面冷却至25~35℃,形成玻璃态铸片;
2-3)将步骤2-2)中得到的玻璃态铸片依次经过预热、拉伸、热处理定型来进行纵向拉伸,其中预热温度为70~90℃,拉伸温度为85~100℃,热处理定型温度为90~100℃;
2-4)将步骤2-3)中纵向拉伸后的产物依次经过预热、拉伸、热处理定型来进行横向拉伸,其中预热温度为105~125℃,拉伸温度为95~115℃,热处理定型温度为110~130℃;随后冷却,即得双键功能化氧化石墨烯/聚乙烯薄膜。
2.根据权利要求1所述的高阻隔性双键功能化氧化石墨烯/聚乙烯薄膜,其特征在于:所述低密度聚乙烯为F181PU、C6LLDPE、DFDA-6010、DFDA-9030、DFDA2001、DFDA9021、DFDA9085、HF-7042、1018HA、SP2020中的一种或多种的组合。
3.根据权利要求1所述的高阻隔性双键功能化氧化石墨烯/聚乙烯薄膜,其特征在于:所述增塑剂为柠檬酸三丁酯、乙酰柠檬酸三丁酯中的一种或两种的组合。
4.根据权利要求1所述的高阻隔性双键功能化氧化石墨烯/聚乙烯薄膜,其特征在于:所述抗静电剂为硬脂酸甘油单酯或硼酸酯中的一种或两种的组合。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于厦门大学;厦门金汇峰新型包装材料股份有限公司,未经厦门大学;厦门金汇峰新型包装材料股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710165292.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





