[发明专利]电子射束光刻系统

权利要求书

1.一种电子射束光刻系统，包括：

子束发生器，用于生成多个电子子束；

子束操纵器，其包括孔径阵列，用于操纵所述多个电子子束；

对准框架，其被布置成支撑所述子束操纵器；

框架，其被布置成支撑所述对准框架；

用于生成等离子体的等离子体发生器，其中所述等离子体发生器包括其中可形成等离子体的室，

其中所述系统被设置成朝向所述孔径阵列引导在所述等离子体中形成的自由基，并且

其中所述等离子体发生器的所述室被集成到所述对准框架中。

2.如权利要求1所述的系统，其中被布置成支撑所述对准框架的所述框架被布置成通过振动衰减固定架来支撑所述对准框架。

3.如权利要求1所述的系统，其中所述等离子体发生器横向地布置至所述子束操纵器。

4.如权利要求1所述的系统，其中所述等离子体发生器包括出口，并且其中所述出口横向地布置至所述子束操纵器。

5.如权利要求4所述的系统，其中所述出口与所述子束操纵器水平地对准。

6.如权利要求1所述的系统，其中所述对准框架被布置成支撑一个或多个可滑动可拆除的子束操纵器模块。

7.如权利要求1所述的系统，还包括真空室，所述真空室包括子束操纵器模块。

8.如权利要求1所述的系统，其中所述等离子体发生器的所述室包括用于接收输入气体的等离子体室进口，和用于排除在其中产生的等离子体和自由基中的至少一者的一个或多个等离子体室出口，所述等离子体发生器还包括与所述一个或多个等离子体室出口流动连接的一个或多个等离子体发生器出口。

9.如权利要求8所述的系统，其中所述等离子体发生器出口通过漏斗连接至所述等离子体室出口，其中所述漏斗被集成到所述对准框架中。

10.如权利要求8所述的系统，还包括中空的导向体，用于朝向所述孔径阵列引导在所述等离子体中形成的自由基。

11.如权利要求10所述的系统，其中所述中空的导向体在所述等离子体发生器出口和所述子束操纵器之间建立流动连接。

12.如权利要求10所述的系统，其中所述子束操纵器被安装在可拆除的模块板上，并且其中所述中空的导向体被安装在所述可拆除的模块板上。

13.如权利要求10所述的系统，还包括护罩，用于放置在所述中空的导向体与等离子体发生器出口的延伸部分之间的连接上，其中所述中空的导向体通过所述护罩能可拆除地连接到所述等离子体发生器出口的延伸部分。

14.如权利要求13所述的系统，其中所述护罩被可滑动地布置在所述连接的位置上。