[发明专利]多谐振器非相邻耦合有效

专利信息
申请号: 201710151794.5 申请日: 2014-09-29
公开(公告)号: CN107425247B 公开(公告)日: 2020-10-16
发明(设计)人: 普马·苏贝迪;伊恩·巴尔克;维安·范·德兰 申请(专利权)人: 英特尔公司
主分类号: H01P1/208 分类号: H01P1/208
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人: 李丽
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 谐振器 相邻 耦合
【权利要求书】:

1.一种射频(RF)滤波器,包括:

包括第一谐振器、第二谐振器和第三谐振器在内的多个谐振器;以及

介于所述第一谐振器和所述第二谐振器之间的交叉耦合元件,所述交叉耦合元件延伸到所述第三谐振器上并且经由位于所述第三谐振器上的电绝缘体与所述第三谐振器电隔离,

其中所述第一谐振器和所述第二谐振器彼此不相邻,所述第三谐振器位于所述第一谐振器和所述第二谐振器之间,以及

其中所述交叉耦合元件包括延伸到所述第一谐振器和所述第二谐振器上的多个凸部,所述多个凸部将所述交叉耦合元件电容性地耦合到所述第一谐振器和所述第二谐振器。

2.如权利要求1所述的RF滤波器,其中,所述多个凸部的长度是可选的。

3.如权利要求1所述的RF滤波器,其中,所述交叉耦合元件经由所述电绝缘体与所述第一谐振器的表面和所述第二谐振器的表面通电地分离。

4.如权利要求3所述的RF滤波器,其中,所述电绝缘体的厚度是可选的。

5.如权利要求3所述的RF滤波器,其中,所述交叉耦合元件包括与所述电绝缘体的表面接触的金属条。

6.如权利要求1所述的RF滤波器,其中,所述多个凸部中的第一凸部延伸到第一谐振器上,并且所述多个凸部中的第二凸部延伸到所述第二谐振器上。

7.如权利要求6所述的RF滤波器,其中,所述交叉耦合元件是金属制成的。

8.如权利要求1所述的RF滤波器,其中,所述多个凸部中的第一凸部延伸到所述第一谐振器上从而在所述第一凸部和所述第一谐振器之间提供第一间隙,所述多个凸部中的第二凸部延伸到所述第二谐振器上从而在所述第二凸部和所述第二谐振器之间提供第二间隙,所述第一间隙和所述第二间隙用于实现所述电容性耦合。

9.如权利要求1所述的RF滤波器,其中,所述多个谐振器包括第四谐振器,所述交叉耦合元件延伸到所述第三谐振器和所述第四谐振器上并且与所述第三谐振器和所述第四谐振器电隔离,并且其中所述第四谐振器介于所述第三谐振器和所述第二谐振器之间。

10.如权利要求1所述的RF滤波器,其中,所述交叉耦合元件包括耦合所述多个凸部的金属条。

11.一种射频(RF)滤波器,包括:

包括第一谐振器、第二谐振器、第三谐振器、第四谐振器和第五谐振器在内的多个谐振器;

介于所述第一谐振器和所述第二谐振器之间的第一交叉耦合元件,所述第一交叉耦合元件延伸到所述第五谐振器上并且与所述第五谐振器电隔离,其中所述第一谐振器和所述第二谐振器彼此不相邻,所述第五谐振器位于所述第一谐振器和所述第二谐振器之间,以及

介于所述第二谐振器和所述第三谐振器之间的第二交叉耦合元件,所述第二交叉耦合元件延伸到所述第四谐振器上并且与所述第四谐振器电隔离,其中所述第二谐振器和所述第三谐振器彼此不相邻,所述第四谐振器位于所述第二谐振器和所述第三谐振器之间,

其中所述第一交叉耦合元件包括延伸到所述第一谐振器和所述第二谐振器上的第一多个凸部,所述第一多个凸部将所述第一交叉耦合元件电容性地耦合到所述第一谐振器和所述第二谐振器,并且

其中所述第二交叉耦合元件包括延伸到所述第二谐振器和所述第三谐振器上的第二多个凸部,所述第二多个凸部将所述第二交叉耦合元件电容性地耦合到所述第二谐振器和所述第三谐振器。

12.如权利要求11所述的RF滤波器,其中,所述第一多个凸部中的第一凸部延伸到第一谐振器上,并且所述第一多个凸部中的第二凸部延伸到所述第二谐振器上。

13.如权利要求11所述的RF滤波器,其中,所述第二多个凸部中的第一凸部延伸到所述第二谐振器上,并且所述第二多个凸部中的第二凸部延伸到所述第三谐振器上。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英特尔公司,未经英特尔公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710151794.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top