[发明专利]微纳颗粒状粉体杂质光学分析方法

权利要求书

1.微纳颗粒状粉体杂质光学分析方法，其特征在于包括以下工作步骤：

①、采用粉末处理装置(1)将含有不同颜色杂质的微纳颗粒状粉体在平台(7)上铺平成具有适宜面积的规矩几何形状和适宜厚度的粉层，所述适宜厚度以粉末颗粒在竖直空间上不相互叠加为宜；

②、采用CCD相机(2)或CMOS相机对粉层进行拍照，所述CCD相机(2)或CMOS相机通过相机支架(3)支撑固定在粉层上方，所述相机支架(3)可在高度和水平上调节CCD相机(2)或CMOS相机的位置；

③、所述CCD相机(2)或CMOS相机通过数据传输线(4)将拍摄的每张照片传输到显示处理终端(5)，所述显示处理终端(5)采用个人计算机、或采用平板电脑、或采用手机；

④、所述个人计算机、或平板电脑、或手机实时接收到CCD相机(2)或CMOS相机传输的照片并利用个人计算机的PC端软件或平板电脑或手机上的APP第三方应用程序对含有杂质的粉末照片进行处理，识别出杂质、统计出杂质数量并将杂质的位置标注在相应图像中，最后将处理好的图像和统计结果输出到显示器上。

⑤、所述CCD相机(2)或CMOS相机拍照完毕，所述粉末处理装置(1)将粉层回收。

2.根据权利要求1所述的微纳颗粒状粉体杂质光学分析方法，其特征在于：所述粉末处理装置(1)包括下料装置、铺平装置和粉末回收装置，所述下料装置将微纳颗粒状粉体下料于平台(7)上呈条状粉堆或方形粉堆，所述铺平装置将条状粉堆或方形粉堆于平台(7)上向前刮平成长方形状的粉层，所述粉末回收装置将长方形状的粉层于平台(7)上向后刮回收集。

3.根据权利要求1所述的微纳颗粒状粉体杂质光学分析方法，其特征在于：所述相机支架(3)为三脚支架、或为四脚支架、或为多脚支架，支架的各脚可单独伸缩调节长度。

4.根据权利要求1～3中任意一项所述的微纳颗粒状粉体杂质光学分析方法，其特征在于：为CCD相机(2)或CMOS相机配置亮度可调的补光光源(6)，以获得最佳的亮度效果和更加清晰的拍摄图像。

5.根据权利要求4所述的微纳颗粒状粉体杂质光学分析方法，其特征在于：所述补光光源(6)套装在CCD相机(2)或CMOS相机的镜头上使用。

6.根据权利要求1～3中任意一项所述的微纳颗粒状粉体杂质光学分析方法，其特征在于：所述平台(7)的台面颜色为白色。