[发明专利]粉体样品杂质分析仪

说明书

本发明公开了一种粉体样品杂质分析仪，包括进出料装置和平铺清扫装置，进出料装置包括设于铺料平台一端上方的漏斗和间歇下料机构以及出料斜斗；平铺清扫装置包括向前摊平而后回收粉体的平铺刮板和清扫刮板，两者前、后竖直设置并用弹性元件吊装于铺料平台上方悬伸的移动杆上，移动杆安装于螺母座上，螺母座旋合于铺料平台外设置的丝杆上，平铺、清扫刮板的前、后行程大于铺料平台的前、后端，于前、后最大行程处所述平铺刮板和清扫刮板的底端低于铺料平台；铺料平台上方设有向下对铺平粉体拍照的CCD相机，CCD相机并通过数据传输线连接显示处理终端。本发明的自动化程度高，识别杂质准确率高，体积小，安装简易，操作简单。

技术领域

本发明涉及粉料杂质检测分析领域，具体为一种粉体样品杂质分析仪。

背景技术

随着材料及相关产业的科技进步，粉体作为普通的工业原料，其应用范围在不断地扩展，人们对于粉体纯度也提出了日益严苛的要求，而目前对于粉体材料质量的分析很多都是由人工通过手动一点点刮开并摊平粉末然后通过肉眼识别来完成，由于视觉疲劳等各种个人因素，导致人工检测效率低，而且分析不准确，尤其针对于微纳颗粒状粉体的分析更是十分困难。

人工检测不仅精确度低，而且人工成本高，粉体飞扬至空气中易对于人体健康带来危害。

发明内容

针对现有技术的不足，本发明所要解决的技术问题是提出了一种替代人工的粉体样品杂质分析仪。

能够解决上述技术问题的粉体样品杂质分析仪，其技术方案包括对应于铺料平台设置的进出料装置和平铺清扫装置，其中：

所述进出料装置包括设于铺料平台一端上方的漏斗和与漏斗连接的间歇下料机构，所述间歇下料机构的出口下方设有将颗粒状粉体向铺料平台下料的出料斜斗。

所述平铺清扫装置包括将下料的颗粒状粉体从下料端向前摊平而后将摊平的颗粒状粉体向后回收的平铺刮板和清扫刮板，所述平铺刮板和清扫刮板前、后竖直设置并通过弹性元件吊装于铺料平台上方悬伸的移动杆上，所述移动杆安装于螺母座上，所述螺母座旋合于铺料平台外设置的丝杆上，所述平铺刮板和清扫刮板的前、后行程大于铺料平台的前、后端，于前、后最大行程处所述平铺刮板和清扫刮板的底端低于铺料平台。

所述铺料平台下料端的后下方设有粉体收集容器。

所述铺料平台上方设有向下对摊平的颗粒状粉体拍照的CCD相机或CMOS相机，所述CCD相机或CMOS相机由多脚相机架支撑安装并通过数据传输线连接显示处理终端，所述显示处理终端实时对CCD相机或CMOS相机传送来的图像数据进行图像处理，利用图像识别技术识别并标注出图像中杂质的位置，同时统计杂质颗粒的数量，并将处理好的图像和统计结果显示在显示处理终端的显示器上。

所述间歇下料机构的一种结构包括竖状柱形筒和横置于柱形筒内的柱形转门，所述柱形转门的上部为等腰三角形体，柱形转门的直径匹配柱形筒的前、后内壁宽度，柱形转门与柱形筒外的转盘同轴安装，所述转盘的顶部与柱形筒之间设有回位弹簧，于转盘的回位位置，柱形转门的上部等腰三角形体居中位于柱形筒内；柱形筒外设有转动转盘即转动柱形转门进行下料的控制机构，于柱形转门的下料位置，柱形转门的上部等腰三角形体偏转至柱形筒的前壁或后壁处。

所述控制机构的一种结构包括设于转盘底部的挡块和可前、后推动挡块而转动柱形转门的推块，所述推块设于推杆上且位于平铺刮板和清扫刮板前方，所述推杆设于移动杆或螺母座上。

为将颗粒状粉体铺平为适宜厚度，所述平铺刮板的底部设计为光滑的斜面；为将颗粒状粉体回收干净，所述清扫刮板的底部设计为粗糙的斜面。

所述多脚相机架的各支脚具有伸缩结构，以此调节CCD相机或CMOS相机的高度和水平位置。

为增补亮度而拍摄清晰的图像，所述CCD相机或CMOS相机的镜头上安装有补光光源。