[发明专利]光罩结构及COA型阵列基板

权利要求书

1.一种光罩结构，其特征在于，用于制作COA型阵列基板内的彩膜层过孔，包括中心遮光部(1)、包围所述中心遮光部(1)并与中心遮光部(1)的外轮廓形状一致的外围遮光部(3)、以及夹在所述外围遮光部(3)与中心遮光部(1)之间的环形的镂空狭缝(5)；

使用时，所述中心遮光部(1)、镂空狭缝(5)、及外围遮光部(3)共同构成的图案对应于所述彩膜层过孔的位置。

2.如权利要求1所述的光罩结构，其特征在于，所述中心遮光部(1)的外轮廓形状为圆形，所述外围遮光部(3)对应为圆环形，所述镂空狭缝(5)对应为圆环形。

3.如权利要求1所述的光罩结构，其特征在于，所述中心遮光部(1)的外轮廓形状为正方形，所述外围遮光部(3)对应为正方形样式的环形，所述镂空狭缝(5)对应为正方形样式的环形。

4.如权利要求1所述的光罩结构，其特征在于，所述中心遮光部(1)的外轮廓形状为正六边形，所述外围遮光部(3)对应为正六边形样式的环形，所述镂空狭缝(5)对应为正六边形样式的环形。

5.如权利要求1所述的光罩结构，其特征在于，所述中心遮光部(1)的外轮廓形状为正八边形，所述外围遮光部(3)对应为正八边形样式的环形，所述镂空狭缝(5)对应为正八边形样式的环形。

6.如权利要求1至5任一项所述的光罩结构，其特征在于，所述镂空狭缝(5)的宽度(B)小于等于2.0um。

7.如权利要求6所述的光罩结构，其特征在于，所述外围遮光部(3)的宽度(A)大于0.5um且小于等于1.0um。

8.如权利要求1所述的光罩结构，其特征在于，所述中心遮光部(1)与外围遮光部(3)的材质为铬。

9.一种COA型阵列基板，其特征在于，包括呈阵列式排布的薄膜晶体管(T)、及自下至上依次层叠在所述薄膜晶体管(T)上的保护层(10)、彩膜层(20)、像素电极(30)、与黑矩阵；所述彩膜层(20)上开设有过孔(21)，所述像素电极(30)经由所述过孔(21)连接薄膜晶体管(T)的漏极；

所述过孔(21)由具有如权利要求1所述的光罩结构的光罩进行制作，坡度缓和。