[发明专利]旱地春玉米一膜两用的种植方法在审

专利信息
申请号: 201710081259.7 申请日: 2017-02-15
公开(公告)号: CN106613294A 公开(公告)日: 2017-05-10
发明(设计)人: 刘恩科;张燕卿;严昌荣;张雪丽;梅旭荣;刘勤;陈保青 申请(专利权)人: 中国农业科学院农业环境与可持续发展研究所
主分类号: A01G1/00 分类号: A01G1/00
代理公司: 北京世誉鑫诚专利代理事务所(普通合伙)11368 代理人: 刘玲玲
地址: 100081 北*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 旱地 玉米 两用 种植 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种种植方法,具体涉及一种旱地春玉米一膜两用的种植方法,属于作物种植技术领域。

背景技术

玉米作为我国的三大主要粮食作物之一,种植面积不断扩大,2012年全国玉米的播种面积已经达到3500万hm2,单产约6t/hm2,总产达2.11亿吨。

地膜覆盖是玉米种植面积和产量不断增加的重要因素之一。在地膜技术使用以前,我国西北、东北旱作区,由于积温偏低和水资源匮乏等条件的制约,玉米无法大面积推广种植。地膜技术出现以来,不仅克服了以上难题,而且减少了玉米种植的田间作业程序,并使玉米保持一个较高的产量水平,提高了农民种植玉米的积极性。据估算,2012年全国有667万hm2-800万hm2玉米采取了地膜覆盖技术,占全国玉米播种面积的1/4以上。

但是,随着地膜的普及和应用,地膜残留问题日益凸显,调查显示,长期覆膜农田中地膜残留量为71.9kg/hm2-259.1kg/hm2,从区域上看,西北农田土壤中残膜量要远远高于华北和西南地区。

残膜的危害主要表现在阻碍土壤毛管水和自然水的渗透,影响土壤吸湿性,降低土壤通透性,影响土壤微生物的活性和土壤肥力等。

此外,土壤残膜还会导致作物出苗慢,出苗率下降,甚至降低农产品的品质。

由此可见,地膜残留给农业生态环境造成了严重的污染,合理使用地膜和加强对地膜的回收多级利用是今后地膜在农业领域健康应用的重要内容。

然而,现有的公开技术主要是从农机方面考虑,针对地膜机械化回收对农机进行研究、设计和实用性探究,以及从地膜材料角度研制可降解地膜。

发明内容

本发明从种植方法考虑,提供一种旱地春玉米一膜两用的种植方法,该方法既能够提高地膜的利用率、减少地膜残留给农业生态环境造成的污染,又能够有效调节土壤的水、肥、气、热内环境,同时还能提高土壤有机质的含量。

为了实现上述目标,本发明采用如下的技术方案:

一种旱地春玉米一膜两用的种植方法,其特征在于,包括以下步骤:

Step1:种植春玉米之前,对田地进行翻耕和施肥;

Step2:翻耕后,对田地进行起垄,垄幅总宽90cm-110cm、大垄宽60cm-70cm、小垄宽30cm-40cm、垄间距15cm、垄高15cm,起垄的同时对田地进行覆盖地膜,采取双垄全膜覆盖模式;

Step3:覆盖地膜之后,在垄沟处播种,每穴2粒种子,当地平均年降水量小于350mm时,种植密度为4.50万株/hm2-5.25万株/hm2,当地平均年降水量大于等于350mm且小于450mm时,种植密度为5.25万株/hm2-6.0万株/hm2,当地平均年降水量大于等于450mm时,种植密度为6.0万株/hm2-6.75万株/hm2

Step4:覆盖地膜7天后,在地膜上打渗水孔;

Step5:种子长成幼苗后,对幼苗进行田间管理;

Step6:对第一年的春玉米进行合理晚收,地膜不采取任何处理措施,将春玉米砍倒的秸秆直接平铺在覆盖着地膜的田地上;

Step7:第二年春季,移走田地上未完全分解的春玉米的秸秆,在同一块田地上直接种植春玉米,种植密度与第一年相同,当地平均年降水量小于350mm时,将种子播种在垄沟内,播种位置为第一年的春玉米两个相邻播种处中间的位置,或者,移除第一年收获后残留的根茬,将种子播种在第一年的春玉米播种处;当地平均年降水量大于等于350mm时,将种子播种在垄上;

Step8:播种春玉米的同时进行施肥,第二年的播种位置在垄沟内时,施肥位置为第二年相邻播种处中间的位置,第二年的播种位置在垄上时,施肥位置为第一年的播种处,施肥后覆土;

Step9:追肥、除草、防虫;

Step10:对第二年春玉米进行晚收,收获后及时移除第一年覆盖的地膜。

前述的旱地春玉米一膜两用的种植方法,其特征在于,在Step1中,施玉米免追专用复合肥,用量为650kg/hm2-850kg/hm2

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国农业科学院农业环境与可持续发展研究所,未经中国农业科学院农业环境与可持续发展研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710081259.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top