[发明专利]电子照相设备和处理盒

说明书

本发明涉及电子照相设备和处理盒。提供一种电子照相设备，其包括电子照相感光构件、以相对于所述电子照相感光构件非抵接的方式配置的充电单元、以与所述电子照相感光构件抵接配置的清洁单元或显影单元、以及转印单元。

技术领域

本发明涉及电子照相设备和处理盒。

背景技术

作为安装至电子照相设备的电子照相感光构件，存在已知的含有有机光导电性材料的电子照相感光构件(有机电子照相感光构件)。在电子照相法中，单元如充电单元、曝光单元、清洁单元和除电单元作用于电子照相感光构件。

充电单元可使用诸如使用放电的充电、摩擦带电和注入带电等方法，使用放电的充电方法被广泛应用，因为其充电均匀性优异。使用放电的充电方法包括其中使充电构件与电子照相感光构件抵接的抵接充电方法，和其中在充电构件与电子照相感光构件之间确保空隙的非抵接充电方法。

在非抵接充电方法中，能够降低充电构件和电子照相感光构件的磨耗量，并且能够减少包括调色剂对充电构件的污染等的不利影响。例如，在日本专利申请特开号2007-25725中，已公开了一种确保在电子照相感光构件与充电构件之间的空隙的技术。

此外，在抵接充电方法中，电子照相感光构件倾向于显著地受到与充电构件抵接的电子照相感光构件的表面附近发生的放电的影响，从而导致表面磨耗。在日本专利申请特开号2005-300741中，描述了设定充电单元的端部位置和显影单元的端部位置之间的间隔在8mm之内，由此抑制电子照相感光构件表面的局部磨耗的技术。

此外，在日本专利申请特开号H01-277269中，描述了具有小于有效充电宽度的有效转印宽度的电子照相设备，由此抑制转印单元的调色剂附着污染。

此外，在日本专利申请特开号2005-172863中，描述了以下技术。电子照相感光构件的表面层含有通过聚合而固化的化合物，并且在存在表面层的区域内使接触充电构件和清洁构件与电子照相感光构件抵接。通过此，能够抑制与接触充电构件的端部抵接的电子照相感光构件表面的局部磨耗。

此外，在日本专利申请特开号2005-114755中，公开了一种限定栅电极的开口宽度(被充电的区域的宽度)、电子照相感光构件的宽度、显影区域的宽度、转印区域的宽度和纸粉除去区域的宽度的技术。

发明内容

根据本发明的一个实施方式，提供一种电子照相设备，其包括：

具有圆筒状形状的电子照相感光构件；

充电单元，其以相对于所述电子照相感光构件非抵接的方式配置，并且构成为使所述电子照相感光构件带电；

清洁单元，其与所述电子照相感光构件抵接配置，并且构成为清洁所述电子照相感光构件的表面；和

转印单元，其构成为将调色剂图像转印至转印材料上，

所述电子照相感光构件依次包括电荷产生层和表面层，

所述电子照相感光构件满足表达式(1)、表达式(2)和表达式(3)：

L1<L5<L3 (1)；

L1>L2 (2)；和

L1>L4 (3)，

其中L1表示从沿所述电子照相感光构件的长度方向的图像形成区域的中心至充电区域的端部的宽度(mm)，

L2表示从沿所述电子照相感光构件的长度方向的图像形成区域的中心至转印区域的端部的宽度(mm)，

L3表示从沿所述电子照相感光构件的长度方向的图像形成区域的中心至形成表面层的表面层形成区域的端部的宽度(mm)，