[发明专利]一种基于铝盐络合物的氟化钙单晶抛光方法在审
申请号: | 201710070811.2 | 申请日: | 2017-02-09 |
公开(公告)号: | CN106826409A | 公开(公告)日: | 2017-06-13 |
发明(设计)人: | 朱杰;姬梦;王占山 | 申请(专利权)人: | 同济大学 |
主分类号: | B24B1/00 | 分类号: | B24B1/00;B24B13/00;C09G1/02;C09G1/18;B08B3/12 |
代理公司: | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人: | 翁惠瑜 |
地址: | 200092 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 络合物 氟化钙 抛光 方法 | ||
1.一种基于铝盐络合物的氟化钙单晶抛光方法,其特征在于,包括以下步骤:
1)对氟化钙单晶进行研磨处理;
2)利用第一抛光液对研磨后的氟化钙单晶进行抛光,并在抛光过程中以设定间隔时间对氟化钙单晶进行超声波清洗;
所述第一抛光液为由掺有纳米级铝盐、纳米级氧化铬和纳米级氧化铁的纳米级二氧化硅抛光粉制成的碱性抛光液;
3)利用第二抛光液在光学沥青模上对氟化钙单晶进行抛光,所述第二抛光液为无水乙醇和乙醚混合液。
2.根据权利要求1所述的基于铝盐络合物的氟化钙单晶抛光方法,其特征在于,所述步骤1)具体为:
A、分别用302#和303#砂纸对氟化钙单晶粗磨;
B、用1500#和2500#的钻石研磨膏对氟化钙单晶精磨;
C、用W1和W0.5的金刚石粉做磨料在聚胺树脂抛光垫上对氟化钙单晶再次进行研磨,同时采用离子水作为研磨液。
3.根据权利要求1所述的基于铝盐络合物的氟化钙单晶抛光方法,其特征在于,所述第一抛光液中,纳米级氯化铝的质量百分比小于2.5%,纳米级氧化铬的质量百分比为0.1%,纳米级氧化铁的质量百分比为0.2%。
4.根据权利要求1所述的基于铝盐络合物的氟化钙单晶抛光方法,其特征在于,所述超声波清洗具体为:采用频率为30KHZ、40KHZ、50KHZ和80KHZ的不同超声波相组合对氟化钙单晶进行超声波清洗。
5.根据权利要求1所述的基于铝盐络合物的氟化钙单晶抛光方法,其特征在于,所述步骤3)中,光学沥青模为加入有质量百分比小于0.5%松香的55#沥青模。
6.根据权利要求1所述的基于铝盐络合物的氟化钙单晶抛光方法,其特征在于,抛光过程的温度为20-21℃,湿度小于40%,第一抛光液的PH值为9-11。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于同济大学,未经同济大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710070811.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种基于晶体氧化剂的LBO晶体抛光方法
- 下一篇:砂轮机及其控制方法和装置