[发明专利]鞋片和鞋有效
申请号: | 201710022673.0 | 申请日: | 2013-07-25 |
公开(公告)号: | CN106579651B | 公开(公告)日: | 2018-06-26 |
发明(设计)人: | 斎藤辰夫;内田広子 | 申请(专利权)人: | 内田贩卖系统有限会社;斎藤辰夫;内田広子 |
主分类号: | A43B17/00 | 分类号: | A43B17/00 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 王玉双;祁建国 |
地址: | 日本岩手*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 压力施加部 基体部 侧表面 平面状 跖面 校正 侧面 | ||
1.一鞋片,用以接触穿着一鞋的一穿用者的跖面,包括:
一片状的基体部;以及
一压力施加部从该基体部的一侧表面突出,该压力施加部成为小于该穿用者的该跖面的一平面状,其特征在于,
该压力施加部被提供在一对立侧面,其是该基体部的该侧表面之中,相对于一跖侧面的一侧表面,该跖侧面是朝向该穿用者的该跖面的一侧表面,该压力施加部间接得接触该穿用者的该跖面的该部分,且该基体部位于该压力施加部和该穿用者的该跖面的该部分之间,使得该穿用者的该跖面的该部分的压力大于其他部分的压力,以使该穿用者的该跖面的形状受到校正,使得该穿用者的该跖面的形状仿效该压力施加部的形状,及
该基体部的该侧表面形状被设置成为一形状,该基体部为朝向一垂直于所述的鞋片且向上的方向凸起的弧形,使得对应该穿用者的一跖腱膜的一部分的基体部位在最高的位置。
2.根据权利要求1所述的鞋片,其特征在于,
在一垂直于所述的鞋片且向下的方向上,该压力施加部的一前端或一后端的一长度,小于该压力施加部在向前-向后的方向上的一中央部分的一长度。
3.根据权利要求2所述的鞋片,其特征在于,
在该垂直于所述的鞋片且向下的方向上,该压力施加部的该前端及该后端的该长度,小于该压力施加部在向前-向后的方向上的该中央部分的该长度。
4.根据权利要求1所述的鞋片,其特征在于,
该压力施加部包括一跖腱膜压力施加部,其被放置在对应至少一区域,该区域是从对应该穿用者的一跗骨的一跟骨的一部分至对应该穿用者的一第二跖骨的一指骨侧上的该端的一部分,以及从对应该穿用者的一跗骨的一跟骨的一部分至对应该穿用者的一第三跖骨的该侧上的该端的一部分。
5.根据权利要求2所述的鞋片,其特征在于,
该压力施加部包括一关节压力施加部,其位于对应该穿用者的一脚的至少一关节的一位置。
6.根据权利要求5所述的鞋片,其特征在于,
该关节压力施加部至少位于对应于该穿用者的第五近端指骨和第五跖骨的连接关节的一位置,或是位于对应于该穿用者的跗横关节的至少一部分的一位置。
7.根据权利要求1所述的鞋片,其特征在于,
一拇指球减压部形成于对应该穿用者的拇指球的一部位,该压力施加部并未提供在该拇指球减压部。
8.根据权利要求1所述的鞋片,其特征在于,
一脚跟减压部形成于对应该穿用者的的脚跟的一部位,该压力施加部并未提供在该脚跟减压部。
9.根据权利要求1所述的鞋片,其特征在于,
该压力施加部包括一足弓减压部,其位于对应该穿用者的一足弓的至少一部分的一位置,及其中该足弓减压部被提供于该对立侧面,其是该基体部的该侧表面之中,相对于该跖侧面的该侧表面。
10.根据权利要求1所述的鞋片,其特征在于,
一旋转式移动促进部用以促进对应该穿用者的该指骨的该压力施加部的该部分,和对应该穿用者的该跖骨的该压力施加部的该部分,相对于彼此做旋转式移动,且该旋转式移动促进部被提供于该两部分之间。
11.根据权利要求10所述的鞋片,其特征在于,
该旋转式移动促进部形成为一凹槽部。
12.根据权利要求10所述的鞋片,其特征在于,
该旋转式移动促进部形成为一带状部,其比对应该穿用者的该指骨的该压力施加部的该部分,以及对应该穿用者的该跖骨的该压力施加部的该部分更有弹性。
13.根据权利要求1所述的鞋片,其特征在于,
该压力施加部可从该基体部分离。
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