[发明专利]一种陶土花盆的上色方法在审

专利信息
申请号: 201710016341.1 申请日: 2017-01-10
公开(公告)号: CN106747674A 公开(公告)日: 2017-05-31
发明(设计)人: 张坚 申请(专利权)人: 梅州市泰丰陶瓷有限公司
主分类号: C04B41/89 分类号: C04B41/89
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 514000 广东省梅*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 陶土 花盆 上色 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及花盆生产技术领域,尤其涉及一种陶土花盆的上色方法。

背景技术

花盆是种花用的一种器皿,为口大底端小的倒圆台或倒棱台形状,种植花卉的花盆形式多样,大小不一,可以根据花卉植物的特性和需要以及花盆的特点选用花盆,较常见的为陶土花盆或者陶瓷花盆。

陶土花盆是用粘土烧制而成,对泥土有种天然的亲和力,而且具有耐腐蚀、通透性强的特点。陶瓷花盆由于排水、通气性差、许多人在栽种花卉时为了美观把它当做套盆用,甚至直接当成装饰品进行欣赏。为了兼顾种植和欣赏的功效,现在出现很多装饰性的陶土花盆,通过对陶土花盆的表面进行上色实现陶土花盆的装饰性效果,通常对陶土花盆的上色采用喷涂的方式,得到的花盆外观一样,方便流水线式生产,但是这样的工艺花盆没有特点,因此为了符合社会需求,需要一种上色不一样的陶土花盆。

发明内容

本发明的目的在于针对以上技术问题,提供一种陶土花盆的上色方法。

一种陶土花盆的上色方法,包括如下步骤:

1)颜料配比:在容器中装入水,将需要使用的若干种颜料顺壁缓慢倒入容器内;

2)花盆预处理:将陶土花盆浸入玻璃水中2-5秒,静置3-5分钟;

3)上色:将预处理过的花盆垂直放入容器中然后拿起,晾干得成品陶土花盆。

在其中一个实施例中,所述容器中水的深度高于所述陶土花盆的深度。

在其中一个实施例中,所述颜料在水面上的厚度为0.3-1.5毫米。

综上所述,一种陶土花盆的上色方法,对陶土花盆进行玻璃水浸泡后,能够暂时封闭陶土表面的气孔,能够增加颜料在陶土表面的附着力,并且能够是颜料在陶土表面光滑,颜料顺壁缓慢流入容器中,由于颜料的密度比水小且不溶于水,因此颜料漂浮在水面上,每种颜料的分子间力不一样,因此在不搅动的情况下,若干种颜料在水面上呈现不混合的状态,花盘放入容器然后拿起的过程中,花盆旁边的颜料会附着在陶土上,由于水面上颜料多种,且在水面上形态不固定,因此附着在陶土上的颜色多种且都不一样,成为独特的工艺陶土花盆。

具体实施方式

下面结合实施方式对本发明作进一步详细的说明。

一种陶土花盆的上色方法,包括如下步骤:

1)颜料配比:在容器中装入水,将需要使用的若干种颜料顺壁缓慢倒入容器内;

2)花盆预处理:将陶土花盆浸入玻璃水中2-5秒,静置3-5分钟;

3)上色:将预处理过的花盆垂直放入容器中然后拿起,晾干得成品陶土花盆。陶土在烧制过程中表面会出现细小的气孔,因此不利于上色,将陶土花盆放入玻璃水中浸泡2-5秒,能够使玻璃水暂时封闭陶土表面的气孔,能够增加颜料在陶土表面的附着力,并且使颜料在陶土表面平整光洁。由于颜料不溶于水且密度比水小,因此颜料会浮在水面上,又由于颜料本身的分子间力且不同颜料间的分子间力不相同,因此各种颜料飘在水面上且互不相容,同时能够有清晰的颜色分界线,并且水面上没有颜料空白区,陶土放下水面再拿起的过程中水面上的颜料附着在陶土表面,而且由于水面上的颜料间分解线明显,因此陶土花盆上的颜料图案全都清晰,而且由于颜料飘在水面上的形状不固定,因此上色后的陶土花盆上的花色图案也不固定,能够形成风格不一样图案不一样的特色陶土花盆。玻璃水是由碳酸钠跟石英通过高温溶解成溶块,然后用高温高压水形成一种半透明的溶液,玻璃水暂时封闭了花盆表面的小气孔,对花盆进行上色处理,能够增加色彩在花盆的附着度,并且色彩光洁,利于工艺花盆的欣赏性。用于陶土表面的玻璃水能够提高陶土表面的密实度、强度、抗渗性、抗冻性及耐水性,因此表面涂覆玻璃水后对陶土花盆进行上色处理能够增加色彩在花盆上的附着度并且色彩光洁。

在其中一个实施例中,所述容器中水的深度高于所述陶土花盆的深度。容器中的水深若小于陶土花盆的深度,则陶土花盆不能完全上色。

在其中一个实施例中,所述颜料在水面上的厚度为0.3-1.5毫米。颜料在水面上的厚度太薄时,不容易上色,且颜料分子间的分子力太小,陶土花盆在上色过程中不同颜料分子容易混合,从而影响水面上的颜料颜色分布,颜料厚度太厚时,陶土花盆上色时附着的颜料太厚重影响陶土花盆上色质量,陶土花盆表面会形成厚度不一的颜料层,会影响颜料干燥和陶土花盆表面的形状。

以上所述实施方式仅是本发明的优选实施方式,应当指出的是,对于本技术领域的普通技术人员,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出改进和变形,这些改进和变形也应视为不脱离本发明的保护范围。

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