[发明专利]电子照相用感光体、其制造方法以及电子照相装置在审
申请号: | 201680056617.2 | 申请日: | 2016-11-14 |
公开(公告)号: | CN108139697A | 公开(公告)日: | 2018-06-08 |
发明(设计)人: | 铃木信二郎;长谷川知贵;朱丰强;小川祐治;小林广高 | 申请(专利权)人: | 富士电机株式会社 |
主分类号: | G03G5/05 | 分类号: | G03G5/05 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 董庆;冯雅 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电子照相用感光体 无机氧化物浆料 电子照相装置 导电性基体 无机氧化物 感光层 感光层涂布 稳定图像 照射波长 透射率 溶剂 制造 | ||
1.一种电子照相用感光体,具备导电性基体、和
形成于所述导电性基体上且包含无机氧化物的感光层,
对20质量%无机氧化物浆料照射波长780nm的光时的所述光的透射率为40%以上;所述20质量%无机氧化物浆料通过将20质量%的所述无机氧化物分散在用于涂布形成所述感光层的感光层涂布液用的溶剂中而形成。
2.如权利要求1所述的电子照相用感光体,其特征在于,所述20质量%无机氧化物浆料的粘度在50mPa·s以下。
3.如权利要求1所述的电子照相用感光体,其特征在于,所述无机氧化物的一次粒径为1~200nm。
4.如权利要求1所述的电子照相用感光体,其特征在于,所述感光层为最外层。
5.如权利要求1所述的电子照相用感光体,其特征在于,所述无机氧化物以二氧化硅为主成分。
6.如权利要求1所述的电子照相用感光体,其特征在于,所述无机氧化物以二氧化硅为主成分且以1ppm~1000ppm包含铝元素。
7.如权利要求6所述的电子照相用感光体,其特征在于,所述无机氧化物经硅烷偶联剂表面处理。
8.如权利要求7所述的电子照相用感光体,其特征在于,所述硅烷偶联剂具有下述通式(1)所示的结构:
(R1)n-Si-(OR2)4-n (1)
式中,Si表示硅原子,R1表示碳直接结合于该硅原子上的形态的有机基团,R2表示有机基团,n表示0~3的整数。
9.如权利要求7所述的电子照相用感光体,其特征在于,所述硅烷偶联剂是包含选自如下至少一种的表面处理剂:
苯基三甲氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、环氧基三甲氧基硅烷、甲基丙烯酸三甲氧基硅烷、氨基三甲氧基硅烷、脲基三甲氧基硅烷、巯丙基三甲氧基硅烷、异氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷、苯基氨基三甲氧基硅烷、丙烯酸三甲氧基硅烷、对苯乙烯基三甲氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-异氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三甲氧基硅烷以及N-苯基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷。
10.如权利要求7所述的电子照相用感光体,其特征在于,所述无机氧化物经多种所述硅烷偶联剂表面处理,最初用于表面处理的硅烷偶联剂具有下述通式(1)所示的结构:
(R1)n-Si-(OR2)4-n (1)
式中,Si表示硅原子,R1表示碳直接结合于该硅原子上的形态的有机基团,R2表示有机基团,n表示0~3的整数。
11.如权利要求1所述的电子照相用感光体,其特征在于,在所述感光层涂布液中以2质量%以下包含具有下述通式(2)所示结构的化合物:
Si(OH)m(R1)n(OR2)4-(n+m) (2)
式中,Si表示硅原子,R1表示碳直接结合于该硅原子上的形态的有机基团,R2表示有机基团,m表示1~4的整数,n表示0~3的整数,m+n为4以下。
12.如权利要求1所述的电子照相用感光体,其特征在于,用于形成所述感光层的感光层涂布液通过将无机氧化物浆料和感光层形成用液混合制得;所述无机氧化物浆料通过将所述无机氧化物一次分散在所述感光层涂布液用的溶剂中形成;所述感光层形成用液通过将电荷输送材料和树脂粘合剂溶解在所述感光层涂布液用的溶剂中形成。
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