[发明专利]用于层压包括有机/无机层的干涉涂层的方法以及由此获得的物品

权利要求书

1.一种用于制备具有非零曲率半径的涂覆有干涉涂层的光学物品的方法，该方法包括以下步骤：

a)提供涂覆有多层式干涉涂层的热塑性膜，所述干涉涂层包含至少一个折射率大于1.65的层和至少一个折射率小于或等于1.65的层，该干涉涂层的这些层中的至少一个是已经在真空下沉积的具有有机-无机性质的层，

b)借助于粘合剂层将所述涂覆的热塑性膜层压在包括基材的光学物品上，所述粘合剂层被定位在该光学物品与该热塑性膜的未涂覆有干涉涂层的表面之间，

c)回收包括涂覆有该粘合剂层、该热塑性膜和该多层式干涉涂层的基材的所述光学物品。

2.如权利要求1所述的制备方法，其中步骤a)中提供的该热塑性膜上存在的该多层式干涉涂层的可见光范围内的反射光谱的至少一部分在使该涂覆的热塑性膜符合所述光学物品的表面的几何形状而引起的变形的作用下具有朝向短波长的位移。

3.如权利要求1或2所述的制备方法，其中在步骤c)中回收的该光学物品的该干涉涂层具有值V的期望的光学特性，并且其特征在于，步骤a)中提供的该热塑性膜上存在的该干涉涂层的所述光学特性的值不同于V，以便考虑将该涂覆的热塑性膜层压在所述光学物品的表面上而引起的变形，该变形具有改变此光学特性的值的作用。

4.如权利要求1或2所述的制备方法，其中步骤b)是通过使该涂覆的热塑性膜经受在其表面的至少一部分上大于或等于1％的变形程度或在使该涂覆的热塑性膜已经经受在其表面的至少一部分上大于或等于1％的变形程度之后进行的，以使其符合所述光学物品的表面的几何形状。

5.如权利要求1或2所述的制备方法，其中层压步骤b)包括：

b1)使步骤a)中提供的所述涂覆的热塑性膜热成型，以使其符合该光学物品的表面的几何形状，并且

b2)通过使用该粘合剂层使步骤b1)中获得的所述热塑性膜粘附，将其施用到该光学物品的基材上。

6.如权利要求1或2所述的制备方法，其中所述具有有机-无机性质的层包含：

碳原子，

氧原子，和

金属或类金属原子。

7.如权利要求6所述的制备方法，其中该金属或类金属选自硅、锆、钛和铌。

8.如权利要求1或2所述的制备方法，其中所述具有有机-无机性质的层是通过至少一种有机硅化合物的由离子源辅助的真空沉积获得的。

9.如权利要求1或2所述的制备方法，其中所述具有有机-无机性质的层是通过至少一种氧化钛和至少一种有机硅化合物的由离子源辅助的真空沉积获得的。

10.如权利要求8所述的制备方法，其中该由离子源辅助的沉积是离子轰击。

11.如权利要求8所述的制备方法，其中该有机硅化合物包含至少一个具有下式的二价基团：

其中R'¹至R'⁴独立地表示烷基、乙烯基、芳基或羟基或可水解基团，或者其特征在于，该化合物A对应于以下式：

其中R'⁵、R'⁶、R'⁷和R'⁸独立地表示羟基或可水解基团。

12.如权利要求8所述的制备方法，其中该有机硅化合物选自八甲基环四硅氧烷、2,4,6,8-四甲基环四硅氧烷、十甲基四硅氧烷、十甲基环五硅氧烷、十二甲基五硅氧烷和六甲基二硅氧烷。

13.如权利要求1或2所述的制备方法，其中所述具有有机-无机性质的层具有在从5至500nm范围内的厚度。

14.如权利要求1或2所述的制备方法，其中该干涉涂层是减反射涂层或滤光器。