[发明专利]与配戴者相适配的光学设备有效
申请号: | 201680038485.0 | 申请日: | 2016-06-28 |
公开(公告)号: | CN108351520B | 公开(公告)日: | 2021-07-27 |
发明(设计)人: | L·凯雷;M·梅南;E·加库安;M·赖格纳特;B·卡利耶 | 申请(专利权)人: | 依视路国际公司 |
主分类号: | G02B27/01 | 分类号: | G02B27/01;G02C7/08 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 杜文树 |
地址: | 法国沙*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 配戴 者相适配 光学 设备 | ||
1.一种与配戴者相适配的光学设备(10),包括:
-发射系统(12),所述发射系统包括光传导元件(16),所述光传导元件被配置成用于透过所述光传导元件的出射面(18)朝向所述配戴者的眼睛(20)输出光,
-第一晶片(14),所述第一晶片包括面向所述光传导元件的内面(28),以及
-间隙(40),所述间隙被安排在所述第一晶片与所述光传导元件的至少所述出射面之间,
其中,所述第一晶片的所述内面(28)至少包括面向所述出射面并且具有大于0D的曲率的弯曲表面,并且所述第一晶片的所述内面(28)的弯曲表面包括面向所述出射面并且具有大于0.2D的曲率的凹形区域。
2.根据权利要求1所述的光学设备,其中,所述第一晶片的所述内面(28)至少包括面向所述出射面并且具有大于0.5D的曲率的凹形区域。
3.根据权利要求1或2所述的光学设备,其中,所述间隙(40)填充有具有的折射率低于所述光传导元件的折射率的材料。
4.根据权利要求1或2所述的光学设备,其中,所述间隙(40)填充有空气。
5.根据权利要求1所述的光学设备,进一步包括第二晶片(60),所述第二晶片被安排成使得所述光传导元件被放置在所述第一晶片与所述第二晶片之间。
6.根据权利要求5所述的光学设备,其中,所述光传导元件包括被安排在面向所述第二晶片的面上的隔离层(64),所述隔离层与所述第二晶片紧密接触。
7.根据权利要求5所述的光学设备,进一步包括被安排在至少所述光传导元件(16)的和所述出射面相反的面与所述第二晶片之间的另一间隙(70),并且其中,所述第二晶片包括面向所述光传导元件的内面,所述第二晶片的所述内面至少包括弯曲表面,该弯曲表面面向与所述出射面相反的面并且具有大于0D的曲率。
8.根据权利要求7所述的光学设备,其中:
-所述晶片中的、又被称为前晶片的一个晶片被配置成用于形成平光镜片,并且
-所述晶片中的、又被称为后晶片的另一个晶片被配置成用于形成具有与所述配戴者相适配的屈光力的镜片。
9.根据权利要求8所述的光学设备,其中,所述后晶片(462)的内面(474)至少包括凸形区域(472),所述凸形区域面向所述出射面(18)而不与所述光传导元件接触并且被配置成用于接收从所述出射面朝向所述配戴者的所述眼睛(20)输出的光。
10.根据权利要求8所述的光学设备,其中,所述前晶片被配置成具有等于零的柱镜度。
11.根据权利要求1所述的光学设备,其中:
-所述光传导元件(16)具有透明基材(22),所述透明基材具有两个面,所述面中的一个面包括所述出射面(18),并且
-所述第一晶片和所述透明基材各自围绕轮廓根据镜架的尺寸被磨边,每个轮廓被包含在平面中。
12.根据权利要求11所述的光学设备,其中,所述第一晶片的所述内面包括周边区域(50),所述周边区域被包含在与所述轮廓(C)相同的平面中。
13.根据权利要求11或12所述的光学设备,其中,所述光学设备包括被安排在所述透明基材的周边区域与所述第一晶片的所述内面的周边区域之间的密封装置(42)。
14.根据权利要求1或2所述的光学设备,其中,所述第一晶片的面中的至少一个面是根据配戴者数据进行表面处理的。
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