[发明专利]显影液、图案形成方法及电子设备的制造方法有效
| 申请号： | 201680035917.2 | 申请日： | 2016-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN107735730B | 公开（公告）日： | 2021-03-19 |
| 发明（设计）人： | 椿英明;土桥彻;二桥亘 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32;C08F12/24;G03F7/038;G03F7/039;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 薛海蛟 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 显影液 图案 形成 方法 电子设备 制造 | ||
【权利要求书】：
1.一种图案形成方法，依次包括以下工序：
使用感光化射线性或感放射线性组合物来形成抗蚀剂膜的抗蚀剂膜形成工序；
对所述抗蚀剂膜进行曝光的曝光工序；
使用显影液对经曝光的所述抗蚀剂膜进行显影的工序；及
使用含有有机溶剂的冲洗液对所述经显影的抗蚀剂膜进行冲洗的工序，
所述显影液含有具有支链烷基的酮系或醚系溶剂，
所述冲洗液所含的有机溶剂为具有支链烷基的醚系溶剂，
所述显影液所含的所述具有支链烷基的酮系或醚系溶剂的碳原子数超过6，且杂原子数为1。
2.根据权利要求1所述的图案形成方法，其中，
所述感光化射线性或感放射线性组合物包含含有下述通式(1)所表示的重复单元的树脂，
通式(1)中，
A表示氢原子、烷基、环烷基、卤素原子或氰基；
R表示卤素原子、烷基、环烷基、芳基、烯基、芳烷基、烷氧基、烷基羰氧基、烷基磺酰氧基、烷氧基羰基或芳氧基羰基，在存在多个的情况下可相同也可不同；在具有多个R的情况下，也可相互共同形成环；
a表示1～3的整数；
b表示0～(3-a)的整数。
3.根据权利要求1或2所述的图案形成方法，其中，
所述曝光使用电子束或极紫外线来进行。
4.一种电子设备的制造方法，其包括权利要求1至3项中任一项所述的图案形成方法。
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