[发明专利]包含光提取特征的玻璃制品及其制造方法

权利要求书

1.一种制造玻璃制品的方法，所述方法包括：

使玻璃基材的第一表面与激光接触，以产生具有第一直径和第一深度的第一多个光提取特征；以及

蚀刻所述玻璃基材以形成具有第二直径和第二深度的第二多个光提取特征。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一和/或第二多个光提取特征以无规、经过排列、重复性、非重复性、对称或不对称式样存在于所述第一表面上。

3.如权利要求1-2中任一项所述的方法，其特征在于，所述第二光提取特征的第二直径约为5微米至约1mm。

4.如权利要求1-3中任一项所述的方法，其特征在于，所述第二光提取特征的第二直径约为20-50微米。

5.如权利要求1-4中任一项所述的方法，其特征在于，所述第二光提取特征的第二直径大于所述第一光提取特征的第一直径。

6.如权利要求1-5中任一项所述的方法，其特征在于，所述第二光提取特征的第二深度约为1微米至约3mm。

7.如权利要求1-6中任一项所述的方法，其特征在于，所述第二光提取特征的第二深度约为10-200微米。

8.如权利要求1-7中任一项所述的方法，其特征在于，所述第二光提取特征的第二深度大于或等于所述第一光提取特征的第一深度。

9.如权利要求1-8中任一项所述的方法，其特征在于，所述第二多个光提取特征包括约为1:1至约为10:1的深度-直径比。

10.如权利要求1-9中任一项所述的方法，其特征在于，所述第二光提取特征之间的距离约为5微米至约2mm。

11.如权利要求1-10中任一项所述的方法，其特征在于，以下任一项或其组合随着所述第一表面上的位置发生变化：所述第二光提取特征的深度、直径、深度-直径比以及几何形貌。

12.如权利要求1-11中任一项所述的方法，所述方法还包括在所述玻璃基材的相对第二表面上形成第三多个光提取特征。

13.如权利要求1-12中任一项所述的方法，其特征在于，所述激光选自：CO₂激光、钇铝石榴石(YAG)激光、三倍频钕掺杂的YAG(Nd:YAG)激光，以及三倍频钕掺杂的原钒酸钇(Nd:YVO₄)激光。

14.如权利要求1-13中任一项所述的方法，其特征在于，所述激光运行在约为200nm至约3微米的波长。

15.如权利要求1-14中任一项所述的方法，其特征在于，蚀刻包括使得玻璃基材与至少一种蚀刻剂接触。

16.如权利要求1-15中任一项所述的方法，其特征在于，蚀刻包括将玻璃基材浸入酸浴中，持续约为30秒至约为15分钟的时间段。

17.如权利要求15所述的方法，其特征在于，所述至少一种蚀刻剂选自无机酸。

18.一种玻璃制品，其包括第一表面和相对第二表面；

其中，所述第一表面包括直径约为5微米至约为1mm和深度约为1微米至约3mm的多个光提取特征，以及

其中，所述多个光提取特征的光提取效率分布的1σ值至少约0.4。

19.如权利要求18所述的玻璃制品，其特征在于，1σ值至少约0.45。

20.如权利要求18-19中任一项所述的玻璃制品，其特征在于，所述光提取特征是凹的、椭圆体、抛物面体、双曲面体或者截头圆锥体。

21.如权利要求18-20中任一项所述的玻璃制品，其特征在于，所述多个光提取特征以无规的、经过排列的、重复的、非重复的、对称的或者不对称式样存在于所述第一表面上。

22.如权利要求18-21中任一项所述的玻璃制品，其特征在于，所述光提取特征的直径约为10-250微米。

23.如权利要求18-22中任一项所述的玻璃制品，其特征在于，所述光提取特征的直径约为20-50微米。

24.如权利要求18-23中任一项所述的玻璃制品，其特征在于，所述光提取特征的深度约为10-200微米。