[发明专利]气态样品的改进电离

权利要求书

1.一种质谱法和/或离子迁移谱法，包括：

提供气溶胶、烟雾或蒸汽形式的分析物；

将基质化合物供应至所述气溶胶、烟雾或蒸汽形式的分析物，使得形成包含所述分析物和所述基质化合物的第一簇、或者使得所述分析物由所述基质化合物稀释或溶解在所述基质化合物中以提供稀释或溶解的分析物；和

使所述第一簇与碰撞表面碰撞、或者使所述稀释或溶解的分析物的第一液滴与碰撞表面碰撞，其中将所述第一簇或所述第一液滴与所述碰撞表面碰撞包括将所述第一簇或所述第一液滴加速至所述碰撞表面上，并且其中将所述第一簇或所述第一液滴加速至所述碰撞表面上包括使用压差将所述第一簇或所述第一液滴加速至所述碰撞表面上。

2.根据权利要求1所述的质谱法和/或离子迁移谱法，其中将所述基质化合物经由基质引入导管以选自由以下各项组成的组的流速供应至所述分析物：(i)50-100μl/min；(ii)100-150μl/min；(iii)150-200μl/min；(iv)200-250μl/min；(v)250-300μl/min；(vi)300-350μl/min；(vii)350-400μl/min；(viii)400-450μl/min；(ix)450-500μl/min；(x)500-550μl/min；(xi)550-600μl/min；(xii)600-650μl/min；(xiii)650-700μl/min；(xiv)700-750μl/min；(xv)750-800μl/min；(xvi)800-850μl/min；(xvii)850-900μl/min；(xviii)900-950μl/min；和(xix)950-1000μl/min。

3.根据权利要求1所述的质谱法和/或离子迁移谱法，包括加热所述碰撞表面。

4.根据权利要求3所述的质谱法和/或离子迁移谱法，包括将所述碰撞表面加热至选自由以下各项组成的组的温度：(i)200-300℃；(ii)300-400℃；(iii)400-500℃；(iv)500-600℃；(v)600-700℃；(vi)700-800℃；(vii)800-900℃；(viii)900-1000℃；(ix)1000-1100℃；和(x)1100℃。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的质谱法和/或离子迁移谱法，包括使用第一装置提供所述分析物；其中所述第一装置包括敞开式离子源或电离源或形成敞开式离子源或电离源的一部分；或者其中所述第一装置从待被分析的目标生成气溶胶、烟雾或蒸汽并且所述气溶胶、烟雾或蒸汽含有离子和/或随后由敞开式离子源或电离源或其他电离源电离。

6.根据权利要求5所述的质谱法和/或离子迁移谱法，其中使用所述第一装置从所述目标生成气溶胶、烟雾或蒸汽包括用激光器照射所述目标。