[发明专利]疏水性膦酸酯和硅烷化学物质

权利要求书

1.一种器件，其包括：

a.衬底；

b.位于衬底上的膦酸酯涂层，其中膦酸酯涂层包括：

其中：

i.各R¹独立地为疏水基团；

ii.Z为与衬底的键；

iii.各R⁵为膦酸酯反应性基团、R¹、R⁶或Z；

iv.膦酸酯反应性基团为-Cl、-OR⁶、-OCOR⁶或-OH；

v.各R⁶各自独立地为烷基、芳基或其组合。

2.根据权利要求1所述的器件，其中所述疏水基团包括CF₃(CF₂)_n(CH₂)_m，其中n和m为0≤n≤20和0≤m≤5界限内的整数。

3.根据权利要求1所述的器件，进一步包括位于衬底上的硅烷涂层，其中硅烷涂层包括化学式(1)、化学式(2)或其组合：

其中：

a.r为正整数；

a.X为与衬底的键；

c.各R³独立地为化学元素或基团；

d.各R³独立地选自：硅烷反应性基团，-H、R¹、R⁶和X；且

e.各硅烷反应性基团独立地选自：-Cl、-OR⁶、-OCOR⁶、-N(R⁶)₂和-OH。

4.根据权利要求3的器件，其中至少一个R³为-OCH₃，至少一个R⁵为-OCH₃或二者。

5.根据权利要求3所述的器件，其中：

a.衬底包括从衬底的基体部分向外延伸的多个凸起，以及介于凸起之间的间隙；

b.硅烷涂层和膦酸酯涂层是共形涂层。

6.根据权利要求5所述的器件，其中：

a.衬底包括由不同材料制成的不同区域；

b.衬底的一个区域包括膦酸酯涂层至少三倍的硅烷涂层；和

c.衬底的另一区域包括硅烷涂层至少三倍的膦酸酯涂层。

7.根据权利要求3所述的器件，其中：

a.衬底包括由不同材料制成的不同区域；

b.X为-O-Si；和

c.Z为-O-Metal，其中Metal为金属原子。

8.一种膦酸酯化学品，其包括(R¹)_iPO(R⁴)_j(R⁵)_k，其中：

a.各R¹独立地为疏水基团；

b.i为1或2，j为1或2，k为0或1，且i+j+k＝3；

c.R⁴为膦酸酯反应性基团；

d.各膦酸酯反应性基团独立地选自：-Cl、-OR⁶、-OCOR⁶和-OH；

e.各R⁶独立地为烷基、芳基或其组合；且

f.各R⁵如果存在的话独立地为任何化学元素或基团。