[发明专利]曝光装置

说明书

本发明提供在对带状的工件实施曝光处理的情况下，无需复杂的工序就能够精度良好地实施曝光处理的曝光装置。曝光装置具备：工件输送机构(20)，其输送带状的工件(1)；曝光光源(30)，其产生曝光光；光掩模(40)，其具有在与工件(1)的宽度方向的端部(1a、1b)对置的位置配置的透射窗(42a～42c)；拍摄机构(60a～60c)，其拍摄透射窗(42a～42c)；以及位置调整机构(51、52)，其调整工件(1)与光掩模(40)的位置关系，所述曝光装置构成为：能够根据由拍摄机构(60a～60c)拍摄得到的、透射窗(42a～42c)的位置与从透射窗(42a～42c)识别到的工件(1)的端部(1a、1b)的位置之间的关系，调整工件(1)与光掩模(40)的位置关系，以使工件(1)与光掩模(40)的位置关系成为目标的位置关系。

技术领域

本发明涉及用于对带状的工件进行曝光处理的曝光装置。

背景技术

在输送带状的工件的情况下，通常在工件的宽度方向上产生蜿蜒，因此在由曝光装置进行曝光处理时，需要进行带状的工件与用于在工件形成电路图案的光掩模之间的对位。

作为这样的曝光装置，通常采用如下方法：在带状的工件和光掩模上分别设置对准标记，基于这些对准标记的位置信息来进行对位。

并且，专利文献1公开了这样的曝光装置的一例。

该专利文献1所公开的曝光装置110如图7所示，首先，将光掩模140与工件1对置配置，以使光掩模140的对准标记A2位于工件1的宽度方向的外缘的外侧。

然后，一边由照明机构170从光掩模140侧照射光，一边由相机160a、160b分别确认光掩模140的对准标记A2和工件1的对准标记A1。

接着，在进行对位的情况下，通过移动光掩模140或工件1以使光掩模140的两个对准标记A2的中点、工件1的两个对准标记A1的中点、以及曝光装置110的曝光光的中心EP重合，由此进行对位。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2001-235877号公报

发明内容

发明所要解决的课题

然而，在使用专利文献1所公开的那样的曝光装置110的情况下，在曝光处理之前需要进行在工件1形成对准标记A1的工序，存在制造工序变多这一问题点。

本发明是解决上述问题的发明，其目的在于提供在对带状的工件实施曝光处理的情况下、无需进行复杂的工序就能够精度良好地实施曝光处理的曝光装置。

用于解决课题的方案

为了解决上述问题，本发明的曝光装置的特征在于，具备：

工件输送机构，其输送作为曝光处理对象的带状的工件；

曝光光源，其配设为与所述工件的一方的主面对置，且产生向所述工件照射的曝光光；

光掩模，其配设于由所述工件输送机构输送的所述工件与所述曝光光源之间，所述光掩模具有在与所述工件的宽度方向上的端部对置的位置配置的使光透过的多个透射窗；

拍摄机构，其配设为与所述工件的一方的主面或另一方的主面对置，且以所述工件的所述端部位于所述透射窗各自的区域内的形态拍摄所述光掩模的多个所述透射窗；以及

位置调整机构，其相对地调整所述工件与所述光掩模的位置关系，

所述曝光装置构成为：能够根据由所述拍摄机构拍摄得到的、所述透射窗的位置与从所述透射窗识别到的所述工件的所述端部的位置之间的关系，通过所述位置调整机构来相对地调整所述工件与所述光掩模的位置关系，以使所述工件与所述光掩模的位置关系成为目标的位置关系。