[发明专利]含水涂覆试剂在审

专利信息
申请号: 201680002420.0 申请日: 2016-07-13
公开(公告)号: CN106715617A 公开(公告)日: 2017-05-24
发明(设计)人: 弗兰克·桑德迈尔;阿尔贝特·豪斯贝格尔;马丁·泽巴尔德 申请(专利权)人: 瓦克化学股份公司
主分类号: C09D183/04 分类号: C09D183/04;C09D7/12
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司11240 代理人: 张英,宫传芝
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 含水 试剂
【权利要求书】:

1.一种含水硅酮树脂分散体,包含

(A)10-70wt%的室温(25℃)下的至少一种硅酮树脂液体,

包含至少50%式(1)的重复单元,

R1(R2O)bSiO(3-b/2) (1)

其中,

R1表示不带有或带有至少一种杂原子的C1-C20烃基基团,

R2表示C1-C6烃基基团或氢基团,以及

b具有0、1或2的值,

和0至至多50%的式(2)的重复单元,

R8c(R2O)dSiO(4-c-d/2) (2),

其中,

R8在每次出现时独立地表示C1-C20烃基基团,

R2具有以上陈述的定义,

c可以是0、2或3,

d可以是0、1、2或3,

条件是c+d≤3,

其特征在于

-硅酮树脂包含至少2种式(1)的重复单元,所述至少2种式(1)的重复单元彼此不同,比值为1:100至100:1,并且所述至少2种式(1)重复单元带有至少2种彼此不同且在它们的长度或尺寸上彼此相差至少一个烃单元的基团R1

-式(1)中所有硅键连的取代基的5%至35%具有子式(R2O),其中R2是C1-C6烃基基团,

-式(1)中所有硅键连的取代基的至多5%具有子式(R2O),其中R2是氢基团,

-在所述式(1)的所有重复单元的至少5%中,b=0,

-在所述式(1)的所有重复单元的至少5%中,b=1,

-在所述式(1)的所有重复单元中的至多25%中,b=2,

B)0-2wt%的至少一种有机聚硅氧烷,包含SiC键连的基团与碱性氮,条件是它的胺数是至少0.01,

(C)0.1-30wt%的至少一种分散助剂,

(D)10-70wt%的水,

(E)0.01-10wt%的至少一种助剂,和

(F)0至6wt%的至少一种烷基烷氧基硅烷,其烷基基团是C1-C20烷基基团以及其烷氧基基团由氧键连的C1-C6烷基基团组成。

2.根据权利要求1所述的含水硅酮树脂分散体,其特征在于R1选自不含杂原子的C1-C20烷基基团和芳基基团。

3.根据权利要求1或2所述的含水硅酮树脂分散体,其特征在于R1选自不含杂原子的C1-C20烷基基团。

4.根据权利要求1至3所述的含水硅酮树脂分散体,其特征在于R1选自甲基、乙基、正辛基和异辛基基团。

5.根据权利要求1至4中所述的含水硅酮树脂分散体,其特征在于R1是甲基和异辛基基团。

6.根据权利要求1或2所述的含水硅酮树脂分散体,其特征在于选择R1使得存在至少一种不含杂原子的C1-C20烷基基团与至少一种芳基基团的组合。

7.根据权利要求1或2所述的含水硅酮树脂分散体,其特征在于R1是甲基和苯基基团。

8.一种含水涂覆材料,其特征在于混合至少一种权利要求1至7所述的本发明的硅酮树脂分散体。

9.根据权利要求8所述的含水涂覆材料,其特征在于它们是涂料、着色剂、清漆和底漆。

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