[实用新型]一种平台单元格机构有效
| 申请号: | 201621457665.6 | 申请日: | 2016-12-28 |
| 公开(公告)号: | CN206588421U | 公开(公告)日: | 2017-10-27 |
| 发明(设计)人: | 方云科;张广垒 | 申请(专利权)人: | 杭州爱科科技有限公司 |
| 主分类号: | B23D33/00 | 分类号: | B23D33/00;B23D33/02 |
| 代理公司: | 杭州天欣专利事务所(普通合伙)33209 | 代理人: | 梁斌 |
| 地址: | 310053 浙江省杭*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 平台 单元格 机构 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种平台单元格机构,用于裁切机。
背景技术
现有的裁切设备上是每台配备的平台都不一样,如果每种设备都存货,会有成本浪费,通用性不强,占用率大等缺点。
中国专利201310450380.4公布了一种新型钢板切割平台,包括支撑框架,多块扁钢平行侧立安装在支撑框架上,形成格栅,所述切割平台由多个小平台组合而成。上述技术方案中,由于切割平台是由多个小平台拼接组合而成。该切割平台灵活性小,不适用于灵活装配。
中国专利201520196988.3公布了一种自动拼焊与等离子切割连接平台,所述工作平台由排列成网格形状的支撑架组成,所述工作平台上具有横向设置的滑槽,所述滑槽内设置有走板滑轮,所述工作平台上的中部位置设有等离子切割导轨、以及在所述等离子切割导轨上滑动的等离子切割机,所述等离子切割导轨的下方设置有等离子切割水槽,以及还包括在所述滑槽上滑动的等离子切割枪头。该切割平台需要安装好之后进行运输,无法实现随用随装。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服现有技术中存在的上述不足,而提供一种结构设计合理,成本低廉,灵活性强,组合性高的平台单元格机构。
本实用新型解决上述问题所采用的技术方案是:一种平台单元格机构,由多个平台单元格拼接组成,其特征在于:所述平台单元格分为单元格大平台和单元格小平台。平台单元格拼接拼接而成的切割设备用处广,通用性强。同时拼接方便,拼接手段和方式多样化。极大地丰富了设备型号数量和种类。
本实用新型平台单元格机构底部设置有真空平台固定矩管,真空平台固定矩管位于相邻的平台单元格之间。相邻的平台单元格之间采用真空平台固定矩管连接,使得切割平台承重能力强,运行稳定,保证了切割平台表面的平整。
本实用新型平台单元格机构所述平台单元格表面设置有吸附孔,平台单元格底部设置有平台分气域吸气孔。一个平台单元格上的所有平台分气域吸气孔相当于一个吸附区域,不同吸附区域之间相互独立,互不导气,用于实现气域切割。吸附孔用于从耐切割毛毡垫上吸附材料。
本实用新型平台单元格机构底部设置有多个气域控制转接管,气域控制转接管与平台分气域吸气孔相连。每一个平台单元格上的平台分气域吸气孔与各自的气域控制转接管单独连通。每个气域控制转接管负责一块区域的吸附,用以增大吸附力度,通过PVC管由设备的上孔连向设备外部的真空吸附气泵上,用以真空吸附。真空吸附气泵为变频气泵配变频器,变频器安装在气泵软起动箱里,在气泵软起动箱的外面安装万能转换开关,用来控制整台设备的电源状态。
本实用新型平台单元格机构底部设置有底架梁,底架梁贯通所有平台单元格。该结构用于平台单元格机构的强度增加。
本实用新型平台单元格机构底部设置有电器箱抽拉限制底架。电器控制箱用电器箱抽拉限制底架限制位置,以保证每次都能放到相同位置,维修方便。
本实用新型所述平台单元格设置有平台固定调节孔。该结构用于调平和固定平台单元格。
相比现有技术,本实用新型具有以下优点:现有机型都要经过拼接组成,不论固定机型或者拼接都较难,现有的设备只能通过不同的平台单元格数量从而拼接成不同的机器型号。本实用新型可以固定设备型号,以不同单元格大平台或者单元格小平台组合拼接得出新的机器型号。原来每种设备需要有不同的平台,平台单元格机构的出现,极大的解决了库存浪费和库存等待浪费,相应备货方便。同时装配灵活便捷,方便运输。
附图说明
图1是本实用新型实施例单元格大平台反面立体结构示意图。
图2是本实用新型实施例单元格大平台正面立体结构示意图。
图3是图2中I的放大结构示意图。
图4是本实用新型实施例单元格小平台反面立体结构示意图。
图5是本实用新型实施例单元格小平台正面立体结构示意图。
图6是图5中II的放大结构示意图。
图7是本实用新型实施例平台单元格机构使用装配结构示意图。
图8是本实用新型实施例平台单元格机构组装结构示意图。
图9是是本实用新型实施例平台单元格机构底部立体结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图并通过实施例对本实用新型作进一步的详细说明,以下实施例是对本实用新型的解释而本实用新型并不局限于以下实施例。
实施例。
参见图1至图9。
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