[实用新型]一种陶瓷工艺摆件上釉装置

权利要求书

1.一种陶瓷工艺摆件上釉装置，包括上釉机主体(2)、档釉箱(12)和吸液泵(18)，其特征在于：所述上釉机主体(2)的一侧下方嵌入设置有接电口(1)，另一侧上方设置有控制面板(16)，且上釉机主体(2)的内部设置有储釉池(3)，所述储釉池(3)的内部设置有搅拌齿(4)，且储釉池(3)的一侧设置有回流箱(6)，所述储釉池(3)与回流箱(6)的连接处设置有过滤网(5)，且储釉池(3)的上端设置有搅拌电机(21)，所述搅拌电机(21)的一侧设置有输釉管(20)，所述输釉管(20)的外部包裹有输釉管固定夹(19)，所述回流箱(6)的一侧设置有支撑台(7)，所述支撑台(7)的上端设置有旋转电机(8)，所述旋转电机(8)的上端设置有减速箱(9)，所述减速箱(9)的上端设置有连接轴承(10)，所述连接轴承(10)的上端设置有旋转吸盘(11)，所述档釉箱(12)安装在旋转吸盘(11)的外部，且档釉箱(12)的上端设置有档釉箱上盖(14)，所述吸液泵(18)安装在上釉机主体(2)的内部上端，且吸液泵(18)的一侧设置有伸缩杆控制器(17)，所述伸缩杆控制器(17)的下端设置有伸缩杆(15)，所述伸缩杆(15)一端靠近旋转吸盘(11)的一侧位置处设置有喷釉头(13)，所述旋转电机(8)、伸缩杆控制器(17)、吸液泵(18)和搅拌电机(21)均与控制面板(16)电性连接，所述控制面板(16)与接电口(1)电性连接。

2.根据权利要求1所述的一种陶瓷工艺摆件上釉装置，其特征在于：所述减速箱(9)与旋转吸盘(11)通过连接轴承(10)转动连接。

3.根据权利要求1所述的一种陶瓷工艺摆件上釉装置，其特征在于：所述支撑台(7)与旋转电机(8)通过螺栓固定连接。

4.根据权利要求1所述的一种陶瓷工艺摆件上釉装置，其特征在于：所述档釉箱(12)为空心结构设置，且档釉箱上盖(14)为可通过转轴打开的机构。

5.根据权利要求1所述的一种陶瓷工艺摆件上釉装置，其特征在于：所述吸盘头(22)共设置有若干个，且若干个吸盘头(22)均匀安装在旋转吸盘(11)内部。