[实用新型]搅拌均匀的反应釜有效

专利信息
申请号: 201621382016.4 申请日: 2016-12-16
公开(公告)号: CN206276387U 公开(公告)日: 2017-06-27
发明(设计)人: 陆丽萍 申请(专利权)人: 浙江德远化工有限公司
主分类号: B01J19/18 分类号: B01J19/18
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 312369 浙江省绍兴*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 搅拌 均匀 反应
【说明书】:

技术领域

本实用新型属于化工设备领域,具体涉及一种搅拌均匀的反应釜。

背景技术

反应釜有加热迅速、耐高温、耐腐蚀、卫生、无污染和使用方便等特点,广泛应用于石油、化工等领域用来完成硫化、聚合、缩合等工艺过程。

申请号为:CN201620417353.6的中国专利公开了一种用于酸性匀染剂尼龙宝生产的反应釜,包括釜体以及位于所述釜体上方且插接于所述釜体内的搅拌轴,所述搅拌轴上轴向滑移连接有搅拌桨,所述釜体内壁设置有双向螺纹槽,所述搅拌桨上设置有一抵接在所述双 向螺纹槽上的联动件。

上述专利文件通过设置可沿搅拌轴的轴向滑动的搅拌桨来促进物料在釜体内上下翻腾。但是搅拌桨整体滑动需要的驱动力较大,需要更多的能源,因此需要一种既能促进物料上下翻腾,又不消耗过多能源的反应釜。

实用新型内容

针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种搅拌均匀的反应釜。

为实现上述目的,本实用新型提供了如下技术方案:一种搅拌均匀的反应釜,包括釜体和搅拌轴,所述釜体的内壁面设有波浪状的环槽,所述搅拌轴上固定连接有搅拌盘,所述搅拌盘上沿周向均布铰接有若干搅拌叶,所述搅拌叶的端部在环槽内滑动。

进一步地,所述环槽有若干个,若干个环槽沿釜体的高度方向布设。

进一步地,所述搅拌盘与搅拌叶在铰接处连接有蛇腹软管。

进一步地,所述搅拌叶在靠近环槽的一端设有滚轮,所述滚轮在环槽内滚动。

进一步地,所述搅拌叶上设有促进物料上下翻腾的水平副叶。

综上所述,搅拌轴转动时,搅拌叶的端部在环槽内滑动,由于环槽是波浪状的,存在高低起伏,因此与搅拌盘铰接的搅拌叶会上下摆动,从而促进反应釜内物料的上下翻腾,且搅拌盘不用上下滑动,仅搅拌叶上下摆动,阻力较小,消耗动力和能源较少。

附图说明

图1为本实用新型搅拌均匀的反应釜的内部结构示意图;

图2为本实用新型搅拌均匀的反应釜中搅拌叶的前视图;

图3为本实用新型搅拌均匀的反应釜中搅拌叶的俯视图;

图4为本实用新型搅拌均匀的反应釜中搅拌叶的三维结构示意图;

图5为本实用新型搅拌均匀的反应釜中环槽的示意图。

附图说明:1、釜体;2、搅拌轴;3、环槽;4、搅拌盘;5、搅拌叶;6、蛇腹软管;7、滚轮;8、水平副叶。

具体实施方式

参照图1至图5对本实用新型搅拌均匀的反应釜的实施例做进一步说明。

一种搅拌均匀的反应釜,包括釜体1和搅拌轴2,所述釜体1的内壁面设有波浪状的环槽3,所述搅拌轴2上固定连接有搅拌盘4,所述搅拌盘4上沿周向均布铰接有若干搅拌叶5,所述搅拌叶5的端部在环槽3内滑动。

通过采用上述技术方案,搅拌轴2转动时,搅拌叶5的端部在环槽3内滑动,由于环槽3是波浪状的,存在高低起伏,因此与搅拌盘4铰接的搅拌叶5会上下摆动,从而促进反应釜内物料的上下翻腾,且搅拌盘4不用上下滑动,仅搅拌叶5上下摆动,阻力较小,消耗动力和能源较少。

本实施例优选的,所述环槽3有若干个,若干个环槽3沿釜体1的高度方向布设。

通过采用上述技术方案,一部分数量搅拌叶5的端部在某个环槽3内滑动,另一部分数量搅拌叶5的端部在其他环槽3内滑动,这样各个搅拌叶5处于不同高度线上,搅拌时进一步地促进反应釜内物料的上下翻腾,促进均匀混合。

本实施例优选的,所述搅拌盘4与搅拌叶5在铰接处连接有蛇腹软管6。

通过采用上述技术方案,蛇腹软管6用于保护铰接处,避免物料与铰接处接触而腐蚀零部件,可以保证搅拌叶5顺畅地上下摆动。

本实施例优选的,所述搅拌叶5在靠近环槽3的一端设有滚轮7,所述滚轮7在环槽3内滚动。

通过采用上述技术方案,滚轮7改滑动摩擦为滚动摩擦,摩擦阻力更小,机械效率更高,消耗能源更少。

本实施例优选的,所述搅拌叶5上设有促进物料上下翻腾的水平副叶8。

通过采用上述技术方案,由于搅拌叶5会上下摆动,因此设置水平副叶8,摆动时上下挤压反应釜内的物料,进一步地促进反应釜内物料的上下翻腾,促进均匀混合。

综上所述,搅拌轴2转动时,搅拌叶5的端部在环槽3内滑动,由于环槽3是波浪状的,存在高低起伏,因此与搅拌盘4铰接的搅拌叶5会上下摆动,从而促进反应釜内物料的上下翻腾,且搅拌盘4不用上下滑动,仅搅拌叶5上下摆动,阻力较小,消耗动力和能源较少。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例,凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

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