[实用新型]一种防锡槽三角区污染的过渡辊台有效

专利信息
申请号: 201621333078.6 申请日: 2016-12-06
公开(公告)号: CN206337173U 公开(公告)日: 2017-07-18
发明(设计)人: 杨剑;伍静;于宪政;李利升 申请(专利权)人: 四川旭虹光电科技有限公司
主分类号: C03C17/22 分类号: C03C17/22;C03B35/16
代理公司: 成都行之专利代理事务所(普通合伙)51220 代理人: 谭新民
地址: 621000 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 防锡槽 三角 污染 过渡
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及浮法玻璃生产领域,具体涉及一种防锡槽三角区污染的过渡辊台。

背景技术

现有国内浮法玻璃生产线,为减少玻璃下表面划伤,提高玻璃下表面的物理强度,采用在锡槽出口通入一定量的二氧化硫,使二氧化硫与玻璃表面形成一层保护膜,防止玻璃划伤。但要求二氧化硫流量控制到最佳,如果流量小,玻璃板下不足以形成硫膜,不能对玻璃板下表面产生保护;若流量大,二氧化硫气体会向锡槽沿口三角区扩散,导致三角区污染,出现印迹、粘锡,严重影响生产出的玻璃质量。

发明内容

为了解决上述问题,本实用新型公开一种防锡槽三角区污染的过渡辊台,该装置能够有效避免过量二氧化硫扩散至锡槽沿口三角区,防止锡槽三角区污染,提高盖板玻璃的生产质量。

本实用新型通过下述技术方案实现:

一种防锡槽三角区污染的过渡辊台,包括数根水平分布的过渡辊,在每两根过渡辊间的下方设有一根用于释放二氧化硫的二氧化硫管,在最靠近锡槽的过渡辊与锡槽间的下方设有一根隔离气管,所述隔离气管内通有用于隔离二氧化硫的气体。

本实用新型采用在锡槽沿口三角区与最靠近锡槽的过渡辊间设置隔离气管,隔离气管内的用于隔离二氧化硫的气体能够从隔离气管内喷出,在锡槽沿口三角区形成一道气幕,气幕能够避免二氧化硫与锡槽接触,污染锡槽沿口三角区,因此能够有效防止锡槽沿口三角区被污染,有效提高盖板玻璃的生产质量。

所述隔离气管为圆筒形,其侧壁上开有数个通孔,所述隔离气管轴线与过渡辊轴线平行。

通孔用于将隔离气管内气体喷散出来,形成隔离气幕,保护锡槽沿口三角区不被二氧化硫污染。

所述用于隔离二氧化硫的气体为高温氮气。氮气不会与二氧化硫和锡槽以及锡槽内的锡液发生化学反应,是一种较为安全的气体,形成的氮气幕能够将二氧化硫管内逸出的二氧化硫气体与锡槽隔离开,防止锡槽污染。

所述用于隔离二氧化硫的气体还可以为其他不与二氧化硫和锡槽以及锡槽内的锡液发生化学反应的气体。

优选的,所述隔离气管上的通孔直径为0.5mm,通孔间距为30mm。

优选的,所述隔离气管长度为4.5m,直径为25mm。

经发明人多次试验,得出当通孔直径为0.5mm,通孔间距为30mm时,喷出的氮气能够很好地形成气幕,隔离二氧化硫,其防污染效果最佳。

所述隔离气管为钢管。

本实用新型与现有技术相比,具有如下的优点和有益效果:

本实用新型一种防锡槽三角区污染的过渡辊台,采用在锡槽沿口三角区与最靠近锡槽的过渡辊间设置隔离气管,隔离气管内的用于隔离二氧化硫的气体能够从隔离气管内喷出,在锡槽沿口三角区形成一道气幕,气幕能够避免二氧化硫与锡槽接触,污染锡槽沿口三角区,因此能够有效防止锡槽沿口三角区被污染,有效提高盖板玻璃的生产质量。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本实用新型实施例的进一步理解,构成本申请的一部分,并不构成对本实用新型实施例的限定。在附图中:

图1为本实用新型结构示意图;

图2为本实用新型隔离气管结构示意图;

附图中标记及对应的零部件名称:

1-过渡辊,2-二氧化硫管,3-锡槽,4-隔离气管,5-通孔。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚明白,下面结合实施例和附图,对本实用新型作进一步的详细说明,本实用新型的示意性实施方式及其说明仅用于解释本实用新型,并不作为对本实用新型的限定。

实施例

如图1、2所示,本实用新型一种防锡槽三角区污染的过渡辊台,包括数根水平分布的过渡辊1,在每两根过渡辊1间的下方设有一根用于释放二氧化硫的二氧化硫管2,在最靠近锡槽3的过渡辊1与锡槽3间的下方设有一根隔离气管4,所述隔离气管4内通有用于隔离二氧化硫的气体。

所述隔离气管4为圆筒形,其侧壁上开有数个通孔5,所述隔离气管4轴线与过渡辊1轴线平行。

所述用于隔离二氧化硫的气体为高温氮气。

所述隔离气管4上的通孔5直径为0.5mm,通孔5间距为30mm。

所述隔离气管4长度为4.5m,直径为25mm。

所述隔离气管4为钢管。

以上所述的具体实施方式,对本实用新型的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明,所应理解的是,以上所述仅为本实用新型的具体实施方式而已,并不用于限定本实用新型的保护范围,凡在本实用新型的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

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