[实用新型]一种黑色陶瓷

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种黑色陶瓷。

背景技术

黑色陶瓷的黑色一般是通过向粉体材料中添加黑色色料或者调节烧结工艺发黑，坯体一旦烧结成型，加工至成品后，其黑度难以发生改变，并且由于加工后陶瓷光洁度较高，反射率增加，黑色陶瓷看上去发亮，但并不是很黑。

针对黑色陶瓷不够黑的特性，主要是因为陶瓷表面反射率太高，透射率太低，现有技术是将陶表面做腐蚀或喷砂粗化处理，使得陶瓷表面粗糙度升高，减少镜面反射，增加漫反射，可将陶瓷黑度增加。

在现实用新型专利中，一般使用黑色色料掺杂在陶瓷粉中，黑色色料通常是黑色氧化物，利用黑色氧化物材料本征的黑来提高黑色陶瓷的黑度，如专利号为CN105669191A的专利，向氧化锆陶瓷中添加氧化铁，氧化钴，氧化铬，氧化铝，氧化镍，氧化锰，氧化锌，氧化钇，氧化钛，二氧化硅，氧化铈，氧化铪，通过黑色氧化物来提高陶瓷本体黑度。还有添加少量的稀土元素，如专利号为CN105565806A的专利，向氧化锆基体中添加含有AB元素的氧化物，A选自Ca，Sr，Ba，Y和La中的一种，B选自Cr，Mn，Fe，Co和Ni中的至少一种。

现有的技术和实用新型专利都是针对陶瓷本体进行改变，在增加黑度的同时，伴随有改变陶瓷力学性能的可能，存在颜色不均，力学性能下降的风险，且一旦加工成型，黑色无法再次调节，且生产周期长，稳定性一般。

上述现有技术的缺点是陶瓷增黑程度有限，且陶瓷表面粗糙度较高，质感与美观下降，同时喷砂粗化技术只能针对厚片(>0.3mm)，薄片则无法实现该技术；向陶瓷粉料中添加黑色氧化物可能带来颜色不均，力学性能下降的风险。

腐蚀和喷砂粗化技术是通过破坏已经加工成型的陶瓷表面来改变光学传播路径实现的，表面被破坏自然质感与美观下降，喷砂对瓷体冲击作用很强，薄片因强度小而容易出现翘曲破损；向陶瓷粉料中添加黑色氧化物，这些氧化物因晶格尺寸或粉体粒径问题容易出现色不均，烧结应力开裂等问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术存在的不足之处而提供了一种黑色陶瓷。本实用新型通过降低陶瓷表面的反射率，在所述黑色陶瓷增黑的同时，不破坏陶瓷表面光滑程度，同时保持黑色陶瓷原有的高光镜面效果与力学性能，不针对特性材料配比的黑色陶瓷，所有黑色陶瓷均可进一步增加黑度。

为实现上述目的，所采取的技术方案：一种黑色陶瓷，所述黑色陶瓷包括黑色陶瓷基底层和设置在所述黑色陶瓷基底层上的减反射膜。

作为一种优选的方案，所述减反射膜包括低折射率膜层和高折射率膜层。所述低折射率膜层的折射率小于1.5；所述高折射率膜层的折射大于2.0。

作为一种优选的方案，所述减反射膜包括交替叠层的低折射率膜层和高折射率膜层。

作为一种优选的方案，所述低折射率膜层为由二氧化硅和氟化镁中的至少一种组成的膜层，所述高折射率膜层为由五氧化二钽，五氧化二钛、三氧化二钛、二氧化钛、一氧化钛，氧化铌，硫化锌，氧化锆，氮化硅中的至少一种组成的膜层。

作为一种优选的方案，所述低折射率膜层为SiO₂膜层，所述高折射率膜层为Si₃N₄膜层、ZrO₂膜层和Ti₃O₅膜层中的至少一种。

作为一种优选的方案，所述减反射膜包括依次叠层的第一Si₃N₄膜层、第一SiO₂膜层、第二Si₃N₄膜层和第二SiO₂膜层；更优选地，所述第一Si₃N₄膜层、第一SiO₂膜层、第二Si₃N₄膜层和第二SiO₂膜层的厚度分别为15.15nm、41.29nm、50.43nm、17.54nm。

作为一种优选的方案，所述减反射膜包括依次叠层的ZrO₂膜层和SiO₂膜层；更优选地，所述ZrO₂膜层和SiO₂膜层的厚度分别为20nm、80nm。