[实用新型]研磨抛光机

说明书

技术领域

本实用新型涉及抛光技术领域，特别是涉及一种研磨抛光机。

背景技术

研磨抛光机在晶片加工行业中应用比较广泛，主要用于晶片的铜抛光与CMP抛光，属于高精密加工，产品尺寸的精度要求较高。

目前，研磨机在晶片的研磨抛光等精加工过程中所使用的研磨抛光液，在加工过程中容易流出操作台，影响研磨机周围的卫生环境。

实用新型内容

基于此，有必要针对抛光液在加工过程中容易流出操作台的技术问题，提供一种研磨抛光机。

一种研磨抛光机，该研磨抛光机包括机架、第一调节臂、第二调节臂、驱动机构、抛光盘及研磨台。所述第一调节臂与所述机架枢接，所述第二调节臂与所述第一调节臂铰接。所述驱动机构包括驱动电机及伸缩件，所述驱动电机设置于所述第二调节臂上，所述伸缩件设置于所述第二调节臂上。所述抛光盘设置于所述伸缩件的末端并通过穿设于所述伸缩件的驱动轴与所述驱动电机的转子连接。所述研磨台包括承载盘和集液板，所述承载盘设置于所述集液板的中部区域，所述集液板设置于所述机架上，所述集液板具有多个集液槽，多个所述集液槽围绕所述承载盘分布。

在其中一个实施例中，所述集液板为长方体结构，所述集液板的四个转角通过螺钉固定在所述机架上。

在其中一个实施例中，所述承载盘的表面开设有网格槽，所述网格槽具有若干凹槽，相邻的两个所述凹槽连通设置。

在其中一个实施例中，所述承载盘的底部开设有排液口，所述排液口与一所述凹槽连通，且所述排液口还与多个所述集液槽连通设置。

在其中一个实施例中，所述集液板开设有多条引流槽，每一所述引流槽对应于一所述集液槽连通，且多条所述引流槽均与所述排液口连通设置。

在其中一个实施例中，多条所述引流槽从所述集液板的中部区域朝外部呈放射状分布。

上述研磨抛光机，通过第二调节臂与第一调节臂，可以将抛光盘移动到研磨台的上方位置，待加工部件放置在承载盘后，通过伸缩件调节抛光盘与承载盘的距离，并在驱动电机的驱动下对放置在承载盘上的待加工部件进行研磨抛光处理，由于集液板具有多个集液槽，且多个集液槽围绕承载盘分布，使得在研磨抛光过程中加入的抛光液可以汇集在多个集液槽中，待加工操作完成后在进行统一处理，如此解决了抛光液在加工过程中容易流出操作台的技术问题，并在提高了工作环境的卫生，从而提高了研磨抛光的效率。

附图说明

图1为一个实施例中研磨抛光机的结构示意图；

图2为一个实施例中研磨抛光机的另一视角的结构示意图；

图3为另一个实施例中研磨抛光机的结构示意图；

图4为另一个实施例中研磨抛光机的结构示意图。

具体实施方式

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受下面公开的具体实施例的限制。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。