[实用新型]真空制盐过程中二次汽的洗汽塔装置

说明书

技术领域

本实用新型属于真空制盐过程中洗汽塔装置技术领域，用于分离气体中含有液体的Cl^-及固体杂质的体系，特别是一种真空制盐过程中二次汽的洗汽塔装置。

背景技术

对于蒸发罐顶部的二次汽，需要在回收利用之前，去除气体中含有液体的Cl^-及杂质固体粒子，尤其是在真空制盐过程中的二次气，其中夹杂的液滴中含有大量氯化钠，如果不能有效去除，而用来作为气体热源进入MVR(Mechanical Vapor Recompression)，机械式蒸汽再压缩技术的简称)水蒸汽入口，就会对叶轮等设备产生腐蚀，如果采用普通的滤网过滤，气体的纯度达不到要求，还是会对设备产生比较严重的腐蚀，如果采用目前已有的过滤装置，不是工艺复杂，过滤成本高，就是过滤效果差，蒸汽纯度不够，给后续利用带来危害。

发明内容

本实用新型的目的是针对现有技术的不足，而提出一种真空制盐过程中二次汽的洗汽塔装置。

本实用新型解决其技术问题是采取以下技术方案实现的：

一种真空制盐过程中二次汽的洗汽塔装置，该装置包括上部直管，上部直管的上开口为二次汽入口，在上部直管的上部侧壁上穿装横向的喷淋直管，在喷淋直管下方的上部直管侧壁上穿装两根喷淋弯管，喷淋弯管的两个喷头在上部直管中部形成相对喷射，在上部直管的下方一体焊接有圆筒状锥段壳体，在锥段壳体内的上部安装有格栅支撑板，在格栅支撑板上铺设有填料层，所述上部直管的下端头穿过填料层及格栅支撑板后延伸至锥段壳体的中部，并由上部直管的下开口释放出喷淋后的二次汽及喷淋水，所述喷淋水由锥段壳体下部一体制出的下锥壳体收集，在下锥壳体的底端开有液体出口，液体出口将所述喷淋水及杂质排出，所述释放出的二次汽反转180度后经由格栅支撑板及填料层去除液滴及Cl^-后来到上部直管外侧的锥段壳体顶部空间，在锥段壳体顶部空间的侧壁上安装有排气管，排气管将纯净二次气体排出装置。

而且，所述填料层具体采用316L材质的厚度为150mm。

本实用新型的优点和积极效果是：

1、本实用新型通过该洗汽塔装置，用于分离气液体系中含有的液体中的Cl^-的气体，得到的蒸汽纯度高，可以得到Cl^-含量少于5ppm的纯净气体，尤其是温度较高的气体热源，通过该工艺装置后，得到高纯度的二次蒸汽作为气体热源进入MVR水蒸汽入口，节约了一次蒸汽的使用量。

2、本实用新型装置结构合理，工艺简洁易于操作，彻底改变了过去众多工艺及设备的高成本或纯度不够的缺陷，具有很高的市场推广价值。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型实施做进一步详述，以下实施例只是描述性的，不是限定性的，不能以此限定本实用新型的保护范围。

一种真空制盐过程中二次汽的洗汽塔装置，如图1所示，该装置包括上部直管4，上部直管的上开口为二次汽入口1，在上部直管的上部侧壁上穿装横向的喷淋直管2，喷淋直管用于横向喷射用于给二次汽降温的冷却水雾，在喷淋直管下方的上部直管上穿装两根喷射方向相对的喷淋弯管3，喷淋弯管形成的相对方向的喷淋水产生的涡旋不但有效为二次汽降温，同时更加有效的溶解二次汽中的杂质，在上部直管的下方一体焊接有圆筒状锥段壳体8，在锥段壳体内的上部安安装有格栅支撑板7，在格栅支撑板上铺设有用于去除液滴及Cl^-的填料层6，所述上部直管的下端头穿过填料层及格栅支撑板后延伸至锥段壳体的中部，并由上部直管的下开口释放出喷淋后的二次汽及喷淋水，所述喷淋水由锥段壳体下部一体制出的下锥壳体9收集，在下锥壳体的底端开有液体出口10，液体出口将喷淋水及杂质排出，所述释放出的二次汽反转180度后经由格栅支撑板及填料层去除液滴及Cl^-后来到上部直管外侧的锥段壳体顶部空间，在锥段壳体顶部空间的侧壁上安装有排气管5，排气管将Cl-含量少于5ppm的纯净二次气体排出装置，排气管可以作为气体热源MVR装置的蒸汽入口。

在本实用新型的具体实施中，所述填料层具体填料层采用316L材质的厚度为150mm的填料层，该材质厚度的填料层有效保证了Cl^-含量少于5ppm的纯净二次气体的产生。