[实用新型]微球涂覆类金刚石薄膜滚动震荡装置有效
申请号: | 201621274837.6 | 申请日: | 2016-11-25 |
公开(公告)号: | CN206308415U | 公开(公告)日: | 2017-07-07 |
发明(设计)人: | 杜凯;王涛;刘磊;何小珊;陈果;刘艳松;何智兵 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
主分类号: | C23C14/50 | 分类号: | C23C14/50;C23C14/35;C23C14/06 |
代理公司: | 成都虹桥专利事务所(普通合伙)51124 | 代理人: | 杨长青 |
地址: | 621037*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 微球涂覆类 金刚石 薄膜 滚动 震荡 装置 | ||
技术领域
本实用新型属于物理气相沉积涂层制备技术领域,具体涉及一种用于磁控溅射技术制备微球表面均匀涂层,并可在高温下正常运转的微球涂覆类金刚石薄膜滚动震荡装置。
背景技术
授权公告号为CN200998706Y的专利文献公开了一种微粒涂覆振荡装置,摆动杆上设置支点,摆动杆的两端分别连接偏心轮和盘,电机带动偏心轮转动使摆动杆绕着支点来回摆动,带动盘摆动,实现微粒涂覆。授权公告号为CN2757933Y的专利文献公开了一种水平振动式微球弹跳装置,该装置利用压电陶瓷片的振动带动反弹盘盘体振动,使反弹盘盘体内微球弹跳,完成对微球表面的涂覆。上述装置虽然能完成对球形微粒外表面涂覆薄膜的功能,但微球起跳是靠与盘壁的碰撞实现,这与微粒之间的碰撞都会使涂镀层表面受到损伤,造成微球表面涂层的表面质量不高。另外,上述装置对微球的大小和重量有限制,且震荡频率不稳定,影响微球涂覆质量。
授权公告号为CN201030355Y的专利文献公开了一种微球三维滚动装置,包括盘、摆动杆、电机、安装架和步进电机,盘与步进电机的旋转轴固定连接,电机旋转带动电机旋转轴上的偏心轮旋转,偏心轮推动摆动杆以安装架上支点柱为轴来回摆动,摆动杆带动步进电机来回摆动,同时步进电机旋转也带动微球旋转,从而达到微球的三维滚动涂覆。授权公告号为CN204523399U的专利文献公开了一种微球全向运动涂覆装置,采用步进电机、电机作为动力源带动微球盘运动,从而实现微球盘中的微球的全向运动,实现微球的均匀涂覆。上述两种装置中,盘的下方均设置步进电机,盘在使用中温度较高,甚至超过100℃,步进电机容易损坏。两种装置采用摆动加转动的运动方式,微球在盘内的运动轨迹大致呈椭圆状,微球聚集后不能分散,微球不能平缓滚动,微球表面涂覆不均匀。
另外,上述四个方案中,盘内光滑,呈现半球状,微球在盘内不易分散开,不能向各方向随机平缓滚动,导致微球表面涂层粗糙,造成微球表面涂层的表面质量不高。
实用新型内容
本实用新型提供一种涂镀均匀,并能降低微球表面粗糙度的微球涂覆类金刚石薄膜滚动震荡装置。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:微球涂覆类金刚石薄膜滚动震荡装置,包括微球盘、连接头、连接件、底座和电磁继电器,所述底座上设置支座,连接头上设置安装孔,安装孔内穿设支撑杆,连接头通过支撑杆安装于支座上且连接头可绕支撑杆摆动;所述连接头的一端连接微球盘,微球盘上设置凸向内侧的弧形凸起,连接头的另一端设置至少一个连接孔;所述底座安装所述电磁继电器,电磁继电器和连接头的连接孔之间通过所述连接件传动连接,所述连接件、连接头或盘上还设置可使盘摆动后复位的弹性件。
进一步的是:所述底座上还安装永磁铁,永磁铁的一侧与所述连接件相连,永磁铁的另一侧与所述电磁继电器适配。
进一步的是:所述弹性件为弹簧,弹簧的一端连接于连接件或连接头,弹簧的另一端固定连接于底座。
进一步的是:所述连接件由相互连接的三叉连接杆和L型连接杆构成,三叉连接杆连接至所述连接头的连接孔,L型连接杆的一侧与所述永磁铁固定连接。
进一步的是:所述三叉连接杆和L型连接杆之间铰接连接,L型连接杆外侧套设固定肋板,固定肋板固定于底座上,固定肋板和L型连接杆之间连接两根所述弹性件,且所述弹性件为弹簧。
进一步的是:所述弧形凸起距微球盘底部的距离为微球盘深度的1/2~2/3。
进一步的是:所述弧形凸起的宽度为6~10mm。
进一步的是:所述底座水平放置时,所述连接头轴向方向与竖直方向的夹角为10°~30°。
进一步的是,所述底座上还设置安装架,所述电磁继电器固设于安装架内。
具体地,所述连接头的一端沿连接头轴向方向设置三个连接孔。
本实用新型的有益效果是:微球涂覆类金刚石薄膜滚动震荡装置采用电磁继电器的磁性吸附作为动力源,可快速准确调整电磁继电器的吸合频率控制微球盘的摆动。微球盘区域无电机,在利用磁控溅射技术在微球涂层制备过程中,沉积离子基团到达基底的能量较高或者二次电子的能量较高,本装置较好地适应了微球盘使用中局部的高温的情况,避免微球盘局部高温影响正常运转。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国工程物理研究院激光聚变研究中心,未经中国工程物理研究院激光聚变研究中心许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201621274837.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:表格处理方法及装置
- 下一篇:一种新型的镀膜基片架
- 同类专利
- 专利分类