[实用新型]一种大电流整流柜

说明书

技术领域

本实用新型涉及整流装置，具体为一种大电流整流柜，属于整流设备技术领域。

背景技术

随着大功率半导体技术的快速发展，半导体整流柜广泛运用于有色金属冶炼、化学工业等领域，目前的整流系统成本高、能耗大，且大电流时电磁场现象明显，柜体发热严重，抖动加大，噪音大，对设备工作构成安全隐患。并且在整流二极管并联时，在各并联支路之间会因导通时间差异、正向压降差异或机械加工差异以及处于直流母线不同位置等原因引起电流分配不均，进而均流系数降低，对整流柜的安全运行、损耗和供电出力影响比较大，因此针对上述问题，我们提出了一种大电流整流柜。

实用新型内容

本实用新型提供一种大电流整流柜，可以有效解决实际应用中大电流时电磁场对自身和周边设备的影响，以及多个元件并联工作的不均流等问题。

为了解决上述技术问题，本实用新型提供了如下的技术方案：

本实用新型一种大电流整流柜，包括柜体、支撑件、快熔铜排、水冷散热器、元件铜排、连接铜板、快速熔断器、整流元件、元件安装件、正负汇流主铜排、进出汇流总水管，所述柜体内均匀分布有若干支撑件，所述支撑件上固定安装有快熔铜排，且所述快熔铜排上固定安装有快速熔断器，所述支撑件上另一端设有元件铜排，元件铜排通过所述元件安装件固定安装有整流元件，快速熔断器和整流元件之间通过水冷散热器连接，正负汇流主铜排通过连接铜板固定连接在快熔铜排上。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述柜体底侧安装有进出汇流总水管。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述快熔铜排、所述元件铜排和所述正负汇流主铜排表面均采用镀锡处理。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述元件铜排和所述快熔铜排均采用同相逆并联铜排靠近排列。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述柜体采用防磁型材质制成。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述支撑件均采用高强度环氧树脂制成。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述进出汇流总水管采用塑钢型管制造。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述整流元件和所述快熔铜排均采用双孔水冷铜排，其接触面通过车床刨铣抛光处理。

本实用新型所达到的有益效果是：本实用新型结构紧凑，使用方便，主柜柜体为防磁型结构，采用优质冷轧钢板为主材及不锈钢切磁处理，支撑件采用高强度环氧树脂板，使磁链无法形成回路，以防止可能产生的大电流电场、磁场引起的局部振动、发热，整流元件及快熔铜排均采用同相逆并联铜排靠近排列，方向相反的磁链相互抵消，尽可能减少漏磁及涡流损耗，整流柜内各部件均有防震措施，能有效降低设备噪音，延长设备寿命，提高设备稳定性，具有良好的经济效益和社会效益，适宜推广使用。

附图说明

附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的限制。在附图中：

图1是本实用新型一种大电流整流柜的正视图；

图2是本实用新型一种大电流整流柜的侧视图；

图中：1、柜体；2、支撑件；3、快熔铜排；4、水冷散热器；5、元件铜排；6、连接铜板；7、快速熔断器；8、整流元件；9、元件安装件；10、正负汇流主铜排；11、进出汇流总水管。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

实施例：如图1-2所示，本实用新型一种大电流整流柜，包括柜体1、支撑件2、快熔铜排3、水冷散热器4、元件铜排5、连接铜板6、快速熔断器7、整流元件8、元件安装件9、正负汇流主铜排10、进出汇流总水管11，柜体1内均匀分布有若干支撑件2，支撑件2上固定安装有快熔铜排3，且快熔铜排3上固定安装有快速熔断器7，所述支撑件2上另一端设有元件铜排5，所述元件铜排5通过元件安装件9固定安装有整流元件8，所述快速熔断器7和整流元件8通过水冷散热器4连接，正负汇流主铜排10通过连接铜板6固定连接在快熔铜排3上。

柜体1内底侧安装有进出汇流总水管11，方便设备进行散热，散热效果良好。

快熔铜排3、元件铜排5和正负汇流主铜排10表面均采用镀锡处理，增强抗导电性和抗氧化性。

元件铜排5和快熔铜排3均采用同相逆并联铜排靠近排列，尽可能减少漏磁及涡流损耗。