[实用新型]一种按摩足浴盆有效
申请号: | 201621090890.0 | 申请日: | 2016-09-29 |
公开(公告)号: | CN206660108U | 公开(公告)日: | 2017-11-24 |
发明(设计)人: | 陈芳;陈磊;谢斐 | 申请(专利权)人: | 武汉大学 |
主分类号: | A61H35/00 | 分类号: | A61H35/00;A61H39/04;A61H9/00 |
代理公司: | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙)42222 | 代理人: | 薛玲 |
地址: | 430072 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 按摩 浴盆 | ||
1.一种按摩足浴盆,其特征在于:包括横向设置在壳体(1)内的多孔隔板(2),该隔板上的孔按脚掌形状分布,且依据足底穴位进行分区,隔板(2)上方为按摩池(16),下方为蓄水池(6),按摩池(16)与蓄水池(6)通过隔板上的孔连通;隔板(2)下端设有连通到蓄水池(6)的若干喷水装置(15),喷水装置(15)正对隔板上的孔,将蓄水池内的水从孔喷出,又通过隔板上的孔回流到蓄水池内,所述喷水装置(15)包括输水管、增压泵,所述输水管一端对准隔板的孔、另一端连接所述增压泵出水管,所述增压泵进水管连接到所述蓄水池(6),变频控制器(12)电连接增压泵控制泵的压力,所述变频控制器(12)电连接到控制器(3)。
2.根据权利要求1所述的一种按摩足浴盆,其特征在于:所述输水管连接到隔板的孔。
3.根据权利要求1所述的一种按摩足浴盆,其特征在于:所述蓄水池(6)下方具有加热装置(8),内部具有温度传感器(9)和水位传感器(10),所述加热装置(8)、温度传感器(9)、水位传感器(10)分别电连接到控制器(3)。
4.根据权利要求3所述的一种按摩足浴盆,其特征在于:所述加热装置(8)为电磁加热装置,蓄水池(6)由金属材料制成,电磁加热装置(8)与蓄水池(6)不接触。
5.根据权利要求1所述的一种按摩足浴盆,其特征在于:所述蓄水池(6)底部具有气泡石(11),封装在壳体内的臭氧发生器(14)产生的臭氧透过气泡石(11)溶到水中,所述臭氧发生器(14)电连接到所述控制器(3)。
6.根据权利要求1所述的一种按摩足浴盆,其特征在于:所述多孔隔板(2)上设有电连接到所述控制器(3)的压力传感器,检测到压力时接通喷水装置(15)。
7.根据权利要求1所述的一种按摩足浴盆,其特征在于:所述蓄水池(6)向外延伸到按摩池(16)的一侧,蓄水池内设药物网罩(5)。
8.根据权利要求1所述的一种按摩足浴盆,其特征在于:防溅水保护罩(18)的一端固定在足浴盆口上,另一端的可松紧腿套(17)套在小腿上,形成一个较为密封的空间,防止足浴水飞溅。
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