[实用新型]一种微纳米臭氧气泡的足浴盆有效
申请号: | 201620990820.4 | 申请日: | 2016-08-30 |
公开(公告)号: | CN206534563U | 公开(公告)日: | 2017-10-03 |
发明(设计)人: | 沈蕾 | 申请(专利权)人: | 上海奈菱机电科技有限公司 |
主分类号: | A47K3/022 | 分类号: | A47K3/022;A61L2/20 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 200231 上海市闵行区华宁*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 纳米 臭氧 气泡 浴盆 | ||
1.一种微纳米臭氧气泡的足浴盆,其特征在于,包括:
壳体;
足浴池,设置所述壳体内,在所述足浴池上设有循环进水口、循环出水口和排水口;所述足浴池内设有按摩脚底穴位的按摩轮;
循环管路,分别与循环进水口和循环出水口相连接,在所述循环管路上设有调速水泵,以调节水流速度;
微纳米气泡生产装置,设置在所述循环管路上,所述微纳米气泡生产装置的进气口与臭氧发生装置相连通;
所述循环管路上还设有加热装置;
所述循环进水口设有滤网。
2.根据权利要求1所述的一种微纳米臭氧气泡的足浴盆,其特征在于,在所述臭氧发生装置和微纳米气泡生产装置之间还设有气流调节阀。
3.根据权利要求1所述的一种微纳米臭氧气泡的足浴盆,其特征在于,所述按摩轮的表面设有众多凸起。
4.根据权利要求1所述的一种微纳米臭氧气泡的足浴盆,其特征在于,所述循环进水口设有止回阀。
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