[实用新型]一种测试夹具有效

专利信息
申请号: 201620773836.X 申请日: 2016-07-21
公开(公告)号: CN206756876U 公开(公告)日: 2017-12-15
发明(设计)人: 李硕;任翔;张一治;李静 申请(专利权)人: 航天科工防御技术研究试验中心
主分类号: G01R1/04 分类号: G01R1/04
代理公司: 北京风雅颂专利代理有限公司11403 代理人: 李阳,李浩
地址: 100085*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 测试 夹具
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及可靠性筛选与测试领域,特别是指一种测试夹具。

背景技术

功率分配/合成器是一种功率传输互易的多端口网络,功率分配器是将合成端口的输入信号功率分成相等或不等的两路功率从分配端口输出。反之,功率合成器时是将分配端口的相等或不等的两路或多路功率合成到合成端口输出。

近年来,随着电子系统高度集成化和元器件小型化的不断发展,功率分配/合成器LRPS-2-1J以其体积小、插入损耗低、隔离度高等优点在电子系统中得到了广泛的应用,其外形结构示意图如图1所示。其中,引脚6为合成端口,引脚3、4为分配端口,引脚1为接地端口。

LRPS-2-1J是一种表贴型功率分配/合成器,使用频段覆盖5-500MHz,阻抗50Ω。其长度和宽度分别为为9.91±0.15mm、7.87±0.3mm,引脚宽度仅为1.14mm,使得对LRPS-2-1J功率分配/合成器的测试难度较大。当前对LRPS-2-1J功率分配/合成器测试主要通过电路板焊接的方式实现,但焊接会对器件造成不必要的伤害,不符合元器件可靠性筛选与测试的要求。

实用新型内容

有鉴于此,本实用新型的目的在于提出一种测试夹具,能够满足非焊接式测试要求的LRPS-2-1J功率分配/合成器测试夹具。

基于上述目的本实用新型提供的测试夹具,包括底座和测试电路板,所述测试电路板固定安装在所述底座上表面;

其中,在所述测试电路板正面设置有器件放置区,所述器件放置区内包括与功率分配/合成器LRPS-2-1J引脚相对应地夹具引脚,其夹具引脚1直接与铺地层相连,夹具引脚2、5悬空;同时,夹具引脚3、4、6分别与一条微带线相连,每条微带线的另一端通过设置在所述底座上的端口穿出所述的底 座,并与高频转接器连接。

在本实用新型的一些实施例中,所述的测试电路板正面的金属层与背面金属层采用过孔实现电连接,并且所述测试电路板背面不铺置阻焊层。

在本实用新型的一些实施例中,所述三条微带线分别穿过在底座上的对应端口,分别与同轴转微带高频转接器焊接。

在本实用新型的一些实施例中,所述微带线的宽度设计为1.5mm,在拐角处设计为45°斜切角。

在本实用新型的一些实施例中,还包括测试盖板,所述测试盖板中间位置上固定安装有弹性压接装置,且所述测试盖板卡扣在所述测试电路板的上表面上。

在本实用新型的一些实施例中,所述测试盖板由黄铜加工而成,表面镀金。

在本实用新型的一些实施例中,在所述测试电路板的居中位置上设置有器件放置区。

在本实用新型的一些实施例中,所述底座由黄铜加工而成,表面镀金。

在本实用新型的一些实施例中,所述测试电路板通过螺丝固定在所述底座的上表面。

从上面所述可以看出,本实用新型提供的测试夹具,通过所述测试电路板固定安装在所述底座上表面;其中,在所述测试电路板正面设置有器件放置区,所述器件放置区内包括与功率分配/合成器LRPS-2-1J引脚相对应地夹具引脚,其夹具引脚1直接与铺地层相连,夹具引脚2、5悬空;同时,夹具引脚3、4、6分别与一条微带线相连,每条微带线的另一端通过设置在所述底座上的端口穿出所述的底座,并与高频转接器连接。从而,所述的测试夹具基于射频EDA电磁软件仿真技术,可以满足LRPS-2-1J功率分配/合成器非焊接式的测试要求,并且具有较高的测试精度。

附图说明

图1为现有技术中功率分配/合成器LRPS-2-1J外形结构示意图;

图2为本实用新型实施例测试夹具的结构示意图;

图3为本实用新型实施例测试夹具的盖板结构示意图。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚明白,以下结合具体实施例,并参照附图,对本实用新型进一步详细说明。

参阅图2所示,为本实用新型实施例测试夹具的结构示意图,所述的测试夹具包括底座202和测试电路板203。其中,所述测试电路板203固定安装在所述底座202上表面。较佳地,该测试夹具的底座202由黄铜加工而成,表面采取镀金处理。优选地,测试电路板203通过螺丝固定在底座202的上表面。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于航天科工防御技术研究试验中心,未经航天科工防御技术研究试验中心许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201620773836.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top