[实用新型]屏蔽框吸附结构及屏蔽罩有效

专利信息
申请号: 201620751374.1 申请日: 2016-07-15
公开(公告)号: CN206226926U 公开(公告)日: 2017-06-06
发明(设计)人: 江国志 申请(专利权)人: 上海与德通讯技术有限公司
主分类号: H05K13/02 分类号: H05K13/02;H05K13/04
代理公司: 上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙)31260 代理人: 成丽杰
地址: 201506 上海*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 屏蔽 吸附 结构
【权利要求书】:

1.一种屏蔽框吸附结构,其特征在于,包含:吸盘、由所述吸盘延伸出来的多个支撑筋以及多个滑块;

所述多个滑块分别可滑动地设置在所述多个支撑筋上,且各支撑筋上具有对应各滑块的多个限位槽;

所述滑块包括吸附层,用于吸附屏蔽框;

所述滑块为中空结构,且所述滑块的内表面设有弹片;

所述滑块套设于所述支撑筋上,且所述弹片抵持于所述限位槽中。

2.根据权利要求1所述的屏蔽框吸附结构,其特征在于,所述滑块的吸附层为微粘性胶层。

3.根据权利要求1所述的屏蔽框吸附结构,其特征在于,所述滑块的吸附层为磁铁层。

4.根据权利要求1所述的屏蔽框吸附结构,其特征在于,所述滑块的吸附层的长度和宽度均为2mm-3mm。

5.根据权利要求1所述的屏蔽框吸附结构,其特征在于,所述吸盘的直径大于5mm。

6.一种屏蔽罩,其特征在于,包括屏蔽框以及屏蔽盖;

所述屏蔽框可以被权利要求1至权利要求5中任意一项所述的屏蔽框吸附结构吸附。

7.根据权利要求6所述的屏蔽罩,其特征在于,所述屏蔽框包括多个侧壁,所述多个侧壁依次首尾相连且所述多个侧壁的上边缘形成开口;

所述屏蔽盖结合于所述多个侧壁且遮盖所述开口。

8.根据权利要求7所述的屏蔽罩,其特征在于,所述多个侧壁的上边缘朝向所述开口的中心方向延伸出延伸部,所述屏蔽框吸附结构通过所述延伸部吸附所述屏蔽框。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海与德通讯技术有限公司,未经上海与德通讯技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201620751374.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top