[实用新型]旋转靶驱动装置

说明书

本实用新型公开了一种旋转靶驱动装置，适用于磁控溅射镀膜设备，用于驱动旋转靶转动实现溅射镀膜；旋转靶驱动装置包括支撑座、插接于支撑座的驱动轴、及设置于驱动轴内的磁钢支撑轴；磁钢支撑轴的一端伸入驱动轴的中心轴孔内，磁钢支撑轴的另一端伸出驱动轴的中心轴孔以连接旋转靶；磁钢支撑轴伸入驱动轴的中心轴孔，且伸入驱动轴中心轴孔的部分磁钢支撑轴沿轴向的两端侧与驱动轴中心轴孔的内壁之间分别设置有支撑轴承件。根据本实用新型提供的旋转靶驱动装置，通过改善旋转靶驱动装置的内部结构，减少磁钢支撑轴变形的情况，从而避免定位不稳的旋转靶内的磁钢和靶筒发生磁撞磨擦的情况，避免旋转靶及其旋转靶驱动装置受损。

技术领域

本实用新型涉及一种玻璃镀膜设备，尤其涉及一种采用溅射实现对玻璃镀膜的磁控溅射镀膜设备的旋转靶驱动装置。

背景技术

用于生产镀膜玻璃的磁控溅射镀膜设备，包括位于两侧的旋转靶驱动装置、由旋转靶驱动装置所驱动的旋转靶、及真空镀膜室。磁控溅射镀膜设备通过电场和磁场的作用，在真空镀膜室内对旋转靶进行溅射，以于玻璃表面沉积薄膜层形成镀膜。

现有的磁控溅射镀膜设备，通过旋转靶驱动装置的六角轴驱动旋转靶转动。旋转靶驱动装置的构造复杂，在长时间使用后，用于连接旋转靶的磁钢支撑轴磨损，容易产生磁钢与靶筒磁撞磨擦的情况，影响旋转靶的生产均匀性，损坏旋转靶驱动部件。

为此，需要一种改进结构的旋转靶驱动装置，提高旋转靶驱动装置的结构稳定性，从而降低旋转靶驱动故障率，保证镀膜工序的正常进行。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种改进结构的旋转靶驱动装置，提高旋转靶驱动装置的结构稳定性，从而降低旋转靶驱动故障率，保证镀膜工序的正常进行。

为了实现上述目的，本实用新型公开了一种旋转靶驱动装置，适用于磁控溅射镀膜设备，用于驱动旋转靶转动实现溅射镀膜；所述旋转靶驱动装置包括支撑座、插接于所述支撑座的驱动轴、及设置于所述驱动轴内的磁钢支撑轴；所述磁钢支撑轴的一端伸入所述驱动轴的中心轴孔内，所述磁钢支撑轴的另一端伸出所述驱动轴的中心轴孔以连接所述旋转靶；所述磁钢支撑轴轴向长度的3/4以上伸入所述驱动轴的中心轴孔，且伸入所述驱动轴中心轴孔的部分所述磁钢支撑轴沿轴向的两端侧与所述驱动轴中心轴孔的内壁之间分别设置有支撑轴承件。

与现有技术相比，本实用新型提供的旋转靶驱动装置，磁钢支撑轴轴向长度的3/4以上伸入驱动轴的中心轴孔内，且伸入驱动轴中心轴孔的部分磁钢支撑轴的两端侧与驱动轴中心轴孔的内壁之间分别设置有支撑轴承件，因而磁钢支撑轴的轴向定位非常可靠，且磁钢支撑轴与驱动轴的中心轴孔之间为滚动摩擦，因而磁钢支撑轴虽随旋转靶发生转动，但被轴承支撑件定位的磁钢支撑轴与驱动轴的中心轴孔的摩擦力比较小，磁钢支撑轴不容易发生磨损。根据本实用新型提供的旋转靶驱动装置，通过改善旋转靶驱动装置的内部结构，减少磁钢支撑轴变形的情况，从而避免定位不稳的旋转靶内的磁钢和靶筒发生磁撞磨擦的情况，避免旋转靶及其旋转靶驱动装置受损。

较佳的，伸入所述驱动轴中心轴孔的部分所述磁钢支撑轴的轴向长度占所述驱动轴中心轴孔轴向长度的2/3以上；通过延长磁钢支撑轴的长度，使得伸入支撑轴中心轴孔的部分磁钢支撑轴的长度亦较长，从而进一步提高磁钢支撑轴相对驱动轴的定位稳定性。

较佳的，伸入所述驱动轴中心轴孔的部分所述磁钢支撑轴套设有隔套；所述隔套的两端分别与两端侧的支撑轴承件相接，且所述隔套的外壁与所述驱动轴中心轴孔的内壁之间呈间隔设置；通过设置隔套、且隔套的外壁与驱动轴中心轴孔的内壁之间呈间隔设置，进一步减少磁钢支撑轴与驱动轴中心轴孔的接触，同时减少磁钢支撑轴因长时间使用而受损。

具体地，所述支撑轴承件相对所述隔套呈对称设置。