[实用新型]一种研磨垫调整器有效
申请号: | 201620133058.8 | 申请日: | 2016-02-22 |
公开(公告)号: | CN205363593U | 公开(公告)日: | 2016-07-06 |
发明(设计)人: | 唐强 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | B24B53/017 | 分类号: | B24B53/017 |
代理公司: | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人: | 余明伟 |
地址: | 100176 北京市大兴区大*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 研磨 调整器 | ||
1.一种研磨垫调整器,其特征在于,所述研磨垫调整器包括:第一调整盘及第二调整盘,所述第一调整盘表面设置有第一尺寸的磨料颗粒,所述第二调整盘表面设置有第二尺寸的磨料颗粒,所述第一调整盘及第二调整盘中央设置有通孔,其中,所述第一尺寸小于所述第二尺寸。
2.根据权利要求1所述的研磨垫调整器,其特征在于:所述第一尺寸的磨料颗粒的直径尺寸范围为70~80μm,所述第二尺寸的磨料颗粒的直径尺寸范围为120~130μm。
3.根据权利要求1所述的研磨垫调整器,其特征在于:所述第一尺寸的磨料颗粒的相邻两颗磨料颗粒中心之间的距离范围为200~250μm,所述第二尺寸的磨料颗粒的相邻两颗磨料颗粒中心之间的距离范围为350~400μm。
4.根据权利要求1所述的研磨垫调整器,其特征在于:所述调整盘的直径为15-16cm。
5.根据权利要求1所述的研磨垫调整器,其特征在于:还包括两个旋转电机、两个扫描电机以及两个机械臂;所述电机位于研磨垫的一侧与所述机械臂连接,其中,所述机械臂包括上层机械臂和下层机械臂;所述上层机械臂的一端与所述第一调整盘连接,另一端与第一旋转电机以及第一扫描电机连接;所述下层机械臂的一端与所述第二调整盘连接,另一端与第二旋转电机以及第二扫描电机连接;所述调整盘设置于研磨垫的上表面。
6.根据权利要求1所述的研磨垫调整器,其特征在于:所述调整盘的摆动轨迹由两个摆动区域构成,自研磨垫的中心至研磨垫的边缘附近依次为第一摆动区域和第二摆动区域;其中,所述第一摆动区域为第一调整盘的摆动区域;所述第二摆动区域为第二调整盘的摆动区域。
7.根据权利要求6所述的研磨垫调整器,其特征在于:所述第一摆动区域的压力为4.85~5.15磅/平方英寸;所述第二摆动区域的压力为3.85~4.5磅/平方英寸。
8.根据权利要求6所述的研磨垫调整器,其特征在于:所述第一摆动区域的长度为6.5~7.8英寸;所述第二摆动区域的长度为2.7~6.5英寸。
9.根据权利要求1所述的研磨垫调整器,其特征在于:还包括用于控制调整盘升降的压缩空气产生装置。
10.一种研磨装置,其特征在于,所述研磨装置包括:权利要求1~9中任意一项所述的研磨垫调整器、研磨垫、研磨平台和研磨头;所述研磨垫铺设于所述研磨平台上,所述研磨头设置于所述研磨垫上,所述研磨垫调整器设置于所述研磨垫上。
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