[实用新型]基板的清洗装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及基板的清洗装置。

背景技术

目前，显示基板、封装盖板或照明基板等基板的表面需要比较高的清洁度， 对这类产品的清洗的要求比较严格；有些基板带有凹槽，有些基板不带凹槽， 对于带凹槽的基板，采用一般的清洗装置，凹槽以及一些死角的位置无法通过 普通的擦拭装置清除掉；清洗不干净而且容易对产品造成损坏，报废率较高； 此外，在通过离心将基板甩干时，在旋转甩干的时候，凹槽内的水分很难脱离 凹槽，需要长时间的高速旋转才能被甩干，工作时间长，效率低，成本较高； 此外，在通过离心将基板甩干时，中心区域的离心力较小，基板中心区域的水 分很难被甩出，需要长时间的高速旋转，工作效率较低，成本较高。

实用新型内容

本实用新型提供了基板的清洗装置，旨在解决现有的清洗装置清洗基板时 清洗效果差的问题。

为了解决以上技术问题，本实用新型通过以下技术方案实现：基板的清洗 装置，包括清洗槽、高压喷水装置和用于擦拭基板的擦拭装置；清洗槽包括槽 体、转动装置和喷气装置；转动装置设置在槽体内，基板水平安装在转动装置 上且在转动装置的带动下在水平面内旋转；喷气装置设置在槽体内壁上且朝向 基板的中心区域喷气；槽体上设有排水装置；高压喷水装置包括第一机械臂和 高压喷头，第一机械臂控制高压喷头进入槽体内且朝向基板喷出高压水。

进一步，所述第一机械臂包括第一立柱和固定在第一立柱上端的第一平杆， 第一立柱为可旋转的伸缩杆，高压喷头固定在第一平杆上。

进一步，擦拭装置包括第二机械臂和转接在第二机械臂上的毛刷辊，第二 机械臂控制毛刷辊进入槽体内且使毛刷辊擦拭基板。

进一步，所述第二机械臂包括第二立柱和固定在第二立柱上端的第二平杆， 第二立柱为可旋转的伸缩杆，毛刷辊转接在第二平杆上。

进一步，所述第二平杆上设有给毛刷辊供给洗涤剂的洗涤剂喷头。可以提 高清洗效果。

进一步，转动装置包括旋转电机和固定在旋转电机转轴上的安装座，安装 座上表面固定有多个限位柱，基板卡接在限位柱之间；转盘的上表面设有至少 三个支撑块，基板放置在支撑块的顶端。便于基板的安装。

进一步，所述基板为方形，安装座由一个固定在旋转电机转轴上的圆盘和 均布在圆盘周边的四个支板构成，每个支板上分别设有一个支撑块和两个用于 卡住基板的限位柱。

进一步，所述限位柱上设有弹性部分，基板卡接在限位柱的弹性部分上。 清洗过程中可以减弱对基板边缘的损坏程度。

进一步，所述支撑块的顶部具有弹性。清洗过程中可以减弱对基板下表面 的损坏程度。

进一步，所述槽体的内壁上设有至少两个喷水管；所述喷水管朝向基板的 上下两个表面喷水。可以提高清洗效果。

进一步，所述喷气装置由至少一根喷气管构成。便于控制气流的方向。

进一步，喷气装置的喷气方向与基板的夹角在10°～70°。在这个角度内， 气流可以更容易将水珠吹离中心区域。在这个角度内，气流可以更容易将水珠 吹离中心区域。此外在这个角度内，使得喷气方向与基板存在倾斜角，再结合 基板的高速旋转，可以使气流流经整个基板，可以将带有凹槽基板的凹槽内水 分吹出，然后通过离心甩出，提高了工作效率。

与现有技术相比本实用新型的优点是：本实用新型可用于带凹槽或表面光 滑的基板，擦拭装置可以将基板表面擦拭干净。高压喷水装置可以将擦拭后残 留在基板上的泥污冲洗干净。此外，对于带凹槽的基板，基板在转动装置的带 动下在水平面内旋转，在旋转时，对基板进行高压喷水可以将基板凹槽内的污 垢清理干净，提高了清洗效果。转动装置转接在槽体内，槽体可以防止水外泄， 保持整洁。基板水平安装在转动装置上且在转动装置的带动下在水平面内旋转； 一方面，在清洗时，通过转动装置缓慢转动基板，擦拭基板时更加均匀；另一 方面，在高速旋转时，可以将基板快速甩干。此外本实用新型结构比较紧凑， 体积小，节省了空间。