[实用新型]一种用于辐照的钴源升降装置有效
申请号: | 201620061058.1 | 申请日: | 2016-01-22 |
公开(公告)号: | CN205318856U | 公开(公告)日: | 2016-06-15 |
发明(设计)人: | 郑彬;迟京俊;潘胜男 | 申请(专利权)人: | 中金辐照武汉有限公司 |
主分类号: | G21K5/00 | 分类号: | G21K5/00 |
代理公司: | 北京天奇智新知识产权代理有限公司 11340 | 代理人: | 李艳双 |
地址: | 430415 湖北省武汉*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 辐照 升降 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种钴源升降装置,属于辐照设备领域,具体涉及一 种用于辐照的钴源升降装置。
背景技术
辐照是利用放射性元素的辐射去改变分子结构的一种化工技术。
工业上,通过辐照,使高分子材料之间的长线形大分子之间通过一定 形式的化学键连接形成网状结构,它可以使高分子之间的束缚力大大增强, 进而增强材料的热稳定性,阻燃性,化学稳定性,耐滴流性,强度和耐应力 开裂。辐照的方式可以有多种,比如x射线,高速电子流等。应用的领域 主要有建筑布线、汽车用线、耐热电子线材和军工领域。
食品业中,利用放射性元素的辐射杀菌的技术,在食品行业中一度流 行。虽然这种技术杀菌效果很好,但是辐射照射如果把握不好,可能会改 变食物的味道。
随着技术经济的发展和物质文明的提高以及法规的不断健全与完善, 随着人们对辐照消毒灭菌优越性认识的不断提高,辐照加工取代化学加工 已是全球性的大势所趋,前景十分光明。
在辐照时,经常需要调整钴源高度位置,但现有技术中的钴源高度位 置只能通过人工调整,在辐照生产时,不能根据需要任意调节,效率低下。
实用新型内容
本实用新型主要是解决现有技术所存在的等的技术问题;提供了一种 用于辐照的钴源升降装置。该用于辐照的钴源升降装置设计合理,结构简 单,成本低且完全实用;不仅能够根据需要调节钴源位置,提高辐照效率, 还能够防止钴源对非辐照区域的辐照影响,使用更加安全。
本实用新型的上述技术问题主要是通过下述技术方案得以解决的:
一种用于辐照的钴源升降装置,包括:穿棚管、拉杆;所述拉杆穿过 所述穿棚管,并且其一端套有弹簧,另一端与所述穿棚管底部的穿棚管托 盘相连,所述穿棚管内至少部分位置填充有铅砂,其外部套有塞盘,所述 塞盘设置于矿井层中。
优化的,上述的一种用于辐照的钴源升降装置,所述拉杆的一端套有 套管,所述套管与所述穿棚管托盘之间通过螺母相连。
优化的,上述的一种用于辐照的钴源升降装置,所述拉杆未设置弹簧 的一端通过销轴与一绳卡组件相连,所述绳卡组件与信号装置相连。
优化的,上述的一种用于辐照的钴源升降装置,所述塞盘为一U形塞 盘。
优化的,上述的一种用于辐照的钴源升降装置,所述穿棚管与弹簧相 连的一端设置有穿棚管顶板,所述拉杆穿过该穿棚管顶板后套有弹簧,该 弹簧通过所述拉杆顶部的螺母固定于该拉杆上。
优化的,上述的一种用于辐照的钴源升降装置,所述穿棚管上还套有 穿棚管塞板,所述穿棚管通过该穿棚管塞板与塞盘固定于矿井层中。
优化的,上述的一种用于辐照的钴源升降装置,所述铅砂位于所述穿 棚管的底侧。
因此,本实用新型具有如下优点:1.设计合理,结构简单,成本低且 完全实用;2.能够根据需要调节钴源位置,提高辐照效率;3.能够防止钴 源对非辐照区域的辐照影响,使用更加安全。
附图说明
图1为本实新型的结构示意图。
具体实施方式
下面通过实施例,并结合附图,对本实用新型的技术方案作进一步具 体的说明。
图中,穿棚管1、弹簧2、穿棚管托盘3、铅砂4、塞盘5、套管6、拉 杆7、螺母8、销轴9、绳卡组件10、信号装置11、穿棚管顶板12、穿棚 管塞板13、矿井层14。
实施例:
一种用于辐照的钴源升降装置,包括:穿棚管1、拉杆7;穿棚管1的 上下两端分别设置有穿棚管顶板12和穿棚管托盘3,拉杆7穿过穿棚管1, 并且其一端套有弹簧2,另一端与穿棚管托盘3相连,弹簧2通过拉杆7顶 部的螺母8固定于该拉杆7上。穿棚管1内至少部分位置填充有铅砂4,铅 砂4优选位于穿棚管1的底侧。穿棚管1外部套有塞盘5,塞盘5设置于矿 井层14中。
拉杆7的一端套有套管6,套管6与穿棚管托盘3之间通过螺母8相连, 该端还通过销轴9与一绳卡组件10相连,绳卡组件10与信号装置11相连。
本实施例中,塞盘5为一U形塞盘,穿棚管1上还套有穿棚管塞板13, 穿棚管1通过该穿棚管塞板13与塞盘5固定于矿井层14中。
通过以上描述可知,本实施例具有以下优点:
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