[实用新型]一种同时使用UV和H2O2的污水处理系统

权利要求书

1.一种同时使用UV和H₂O₂的污水处理系统，其特征在于，沿工艺路线方向依次连接设置气液混合装置(1)、超声波催化装置(2)和紫外催化装置(3)；

所述气液混合装置(1)的进水端连接设置H₂O₂气体发生器(4)，所述气液混合装置(1)的出水端连接设置加压水泵(5)；

所述超声波催化装置(2)的下部与所述加压水泵(5)的出水端连通设置，所述超声波催化装置(2)的内部侧壁上设置能发出超声波的超声波震板；

所述紫外催化装置(3)的下部与所述超声波催化装置(2)的上部连通设置，所述紫外催化装置(3)的内部沿竖直方向交错设置多个流道板(31)，以在所述紫外催化装置(3)的内部形成S形流道，相邻两个所述流道板(31)之间设置紫外光发射装置(32)，所述紫外催化剂装置的上部设置排水口(33)。

2.根据权利要求1所述的同时使用UV和H₂O₂的污水处理系统，其特征在于，所述气液混合装置(1)为管状结构，沿所述气液混合装置(1)的进水端至出水端方向，所述气液混合装置(1)的内径先减小后增大。

3.根据权利要求1所述的同时使用UV和H₂O₂的污水处理系统，其特征在于，所述超声波震板包括第一超声波震板(21)和第二超声波震板(22)，所述第一超声波震板(21)发出超声波的频率大于所述第二超声波震板(22)发出超声波的频率。

4.根据权利要求3所述的同时使用UV和H₂O₂的污水处理系统，其特征在于，所述第一超声波震板(21)和第二超声波震板(22)呈相对设置。

5.根据权利要求1所述的同时使用UV和H₂O₂的污水处理系统，其特征在于，所述超声波催化装置(2)的内部顶壁上设置使水体均匀分布的上扰流板(23)，所述超声波催化装置(2)的内部底壁上设置使水体均匀分布的下扰流板(24)。

6.根据权利要求1所述的同时使用UV和H₂O₂的污水处理系统，其特征在于，所述超声波催化装置(2)的顶部设有第一压力表(25)和第一自动泄压阀(26)。

7.根据权利要求1所述的同时使用UV和H₂O₂的污水处理系统，其特征在于，所述超声波催化装置(2)的底部设有第一污水排空口(27)。

8.根据权利要求1所述的同时使用UV和H₂O₂的污水处理系统，其特征在于，所述紫外催化装置(3)的顶部设有第二压力表(34)和第二自动泄压阀(35)。

9.根据权利要求1所述的同时使用UV和H₂O₂的污水处理系统，其特征在于，所述紫外催化装置(3)的底部设有第二污水排空口(36)。

10.根据权利要求1所述的同时使用UV和H₂O₂的污水处理系统，其特征在于，所述流道板(31)为透光流道板，所述紫外发生装置为紫外灯。