[实用新型]一种双排气螺杆有效
申请号: | 201620056637.7 | 申请日: | 2016-01-20 |
公开(公告)号: | CN205272555U | 公开(公告)日: | 2016-06-01 |
发明(设计)人: | 朱高辉 | 申请(专利权)人: | 舟山市华方机械有限公司 |
主分类号: | B29C47/60 | 分类号: | B29C47/60;B29C47/76 |
代理公司: | 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 | 代理人: | 吴建锋 |
地址: | 316013 浙江省舟*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 排气 螺杆 | ||
技术领域
本实用新型涉及螺杆,尤其涉及一种双排气的螺杆。
背景技术
目前,国内外在挤出机的使用上非常普及,当原料在螺杆处混合 及挤压时会产生一定的空气,当原料处的空气含量一定时,会产生气 泡现象,影响螺杆的使用寿命,同时原料内部含有空气,使产品的合 格率下降,当含有空气的原料做成薄膜时,可能会使薄膜破裂,出现 废品。
本发明提及的一种双排气螺杆,通过对螺杆的参数改变及在筒体 处加工排气孔的方法,使原料在挤压过程中将空气分两次排出,提高 产品的质量。
实用新型内容
针对上述问题中存在的不足之处,本实用新型提供一种双排气螺 杆。
为实现上述目的,本实用新型提供一种双排气螺杆,包括:
螺杆及筒体(2),还包括排气段Ⅰ和排气段Ⅱ,所述排气段Ⅰ右 边连接挤压段,所述排气段Ⅰ和排气段Ⅱ之间通过过渡段连接;所述 排气段Ⅰ和排气段Ⅱ的底径一致,均小于所述挤压段的底径;所述排 气段Ⅰ处为双头螺杆Ⅰ,所述排气段Ⅱ处为双头螺杆Ⅱ,其结构完全 一致;排气孔,所述排气孔为2个,处于所述筒体上部与所述排气段 Ⅰ和排气段Ⅱ对应,所述排气孔通过螺栓连接真空泵。
作为本实用新型进一步改进,所述挤压段处为单头螺杆,所述单 头螺杆的螺距大于双头螺杆Ⅰ及双头螺杆Ⅱ的螺距。
作为本实用新型进一步改进,所述排气孔加工在所述筒体的上侧 面,所述排气孔的中心线与水平线呈65°-75°的夹角。
作为本实用新型进一步改进,所述排气孔的右端与所述筒体的内 侧有过渡槽过渡。
作为本实用新型进一步改进,所述排气段Ⅰ连接的真空泵的真空 度大于排气段Ⅱ(9)连接的真空泵。
本实用新型的有益效果为:
1.通过在螺杆的中间部位增设两段排气段,在排气段的筒体上 各加工一个排气孔;在排气孔的外面通过螺栓连接真空泵,用来抽取 螺杆内的空气。使原料内的空气被真空泵抽走,保证产品的质量。
2.通过使排气段的螺杆底径变小,螺杆变为双螺杆式,在排气 段处压力加大,让原料内的空气挤压到筒体的内侧边缘,有利于真空 泵抽气。
3.在排气孔的右侧与筒体的内侧接触处加工过渡槽,有利于原 料的搅拌,防止原料被真空泵抽走。
附图说明
图1为本实用新型一种双排气螺杆的主视图;
图2为本实用新型一种双排气螺杆的筒体排气孔处剖视图;
图3为本实用新型一种双排气螺杆的筒体排气孔处放大图。
图中:1、螺杆;2、筒体;3、挤压段;4、单头螺杆;5、排气 段Ⅰ;6、双头螺杆Ⅰ;7、过渡段、8、排气孔;9、排气段Ⅱ;10、 双头螺杆Ⅱ;11、过渡槽。
具体实施方式
如图1-3所示,本实用新型实施例所述的一种双排气螺杆,包括: 螺杆1及筒体2,在螺杆1的中间部位加工两段排气段,即排气段Ⅰ 5和排气段Ⅱ9,排气段Ⅰ5右边连接挤压段3,排气段Ⅰ5和排气段 Ⅱ9之间通过过渡段7连接;排气段Ⅰ5和排气段Ⅱ9的底径一致, 均小于所述挤压段3的底径;所述排气段Ⅰ5处为双头螺杆Ⅰ6,所 述排气段Ⅱ9处为双头螺杆Ⅱ10,其结构完全一致;排气孔8为2个, 处于筒体2上部与排气段Ⅰ5和排气段Ⅱ9对应,排气孔8通过螺栓 连接真空泵。挤压段3处为单头螺杆4,单头螺杆4的螺距大于双头 螺杆Ⅰ6及双头螺杆Ⅱ10的螺距。排气孔8加工在筒体2的上侧面, 排气孔8的中心线与水平线呈65°-75°的夹角。排气孔8的右端与 筒体2的内侧有过渡槽11过渡。排气段Ⅰ5连接的真空泵的真空度 大于排气段Ⅱ9连接的真空泵。
通过在螺杆的中间部位增设两段排气段,在排气段的筒体上各加 工一个排气孔;在排气孔的外面通过螺栓连接真空泵,用来抽取螺杆 内的空气。使原料内的空气被真空泵抽走,保证产品的质量。通过使 排气段的螺杆底径变小,螺杆变为双螺杆式,在排气段处压力加大, 让原料内的空气挤压到筒体的内侧边缘,有利于真空泵抽气。在排气 孔的右侧与筒体的内侧接触处加工过渡槽,有利于原料的搅拌,防止 原料被真空泵抽走。
具体使用时,为方便理解本实用新型,结合附图进行描述;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于舟山市华方机械有限公司,未经舟山市华方机械有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201620056637.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:衬底处理方法和衬底处理设备
- 下一篇:半导体集成电路