[实用新型]一种物理天平有效

专利信息
申请号: 201620054093.0 申请日: 2016-01-14
公开(公告)号: CN205317312U 公开(公告)日: 2016-06-15
发明(设计)人: 郭宇昊;郭宇哲 申请(专利权)人: 郭宇昊
主分类号: G01G1/22 分类号: G01G1/22
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 250109 山东省济南市历城区郭*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 物理天平
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种物理天平,属于教学用品结构技术领域。

背景技术

物理天平是物理教学过程中常用的教学工具之一,物理天平是称量物 体质量的仪器,物理天平是运用“杠杆平衡时作用在等力臂上的力相等” 的原理制成的.主要由游码,标尺,平衡螺母,底板,分度盘,横梁指针, 重垂线等构成,物理天平属于较为精密的秤量用具,若是保存不当,极易 造成天平物理天平损坏,影响物理天平秤量时的精确度,再者物理天平高 度较低,不便于学生观察。

发明内容

本实用新型的目的在于解决现有技术存在的不足之处,提供一种结构 设计巧妙,不易损坏,使用寿命长,便于学生观看的物理天平。

本实用新型是通过以下技术方案来实现的:

一种物理天平,其特殊之处在于包括底座1,底座1的上方中间位置处 安装有支柱2,支柱2的顶部设有横梁3,横梁3上设有游码4,横梁3的 左右两侧分别设有边刀托5,横梁3的中间位置处安装有中刀托6,两个边 刀托5上均挂设有秤盘7,支柱2的下方安装有度盘8,中刀托6上设有指 针9,底座1的底部安装有用于调节平衡的平衡螺母10,两个秤盘7的正 下方均设有与秤盘7配合使用的圆形通孔11,底座1的下表面中间位置处 安装有圆柱形支架12,圆柱形支架12的外部套设有支筒13,支筒13的外 壁上安装有水平支撑台面14,支撑台面14的顶部与平衡螺母10的底部相 接触,底座1的上方安装有支杆16,支杆16上安装有杯托盘17;

为了提高稳固性,所述支筒13的口径自上而下依次递增;

所述底座1的宽度方向左右两侧均安装有滑动轨道18,两个滑动轨道 18内均嵌设有滑动条19,滑动条19的一侧位于滑动轨道18外部,滑动条 19位于滑动轨道18外部的一侧安装有垂直挡板15,其中一个垂直挡板15 的顶部通过连接轴20连接有可翻转的水平挡板21,水平挡板21的一端搭 设于另一个垂直挡板15的顶部。

本实用新型的一种物理天平,结构设计巧妙,若是平时不使用时,可 以将两个滑动条分别插于左右两侧的滑动轨道内,即可将两个垂直挡板固 定于底座的左右两侧,然后翻转水平挡板,使水平挡板的一端搭于一侧的 垂直挡板上,即可形成一个保护空间,防止物理天平被损坏,使用时,若 是想提高物理天平的高度,可以将支筒套设于圆柱形支架上,两个平衡螺 母的底部与支撑台面相接触,从而可以调节底座的水平。综上所述,本实 用新型的物理天平结构设计巧妙,十分实用。

附图说明

图1:本实用新型一种物理天平的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步说明。

实施例1

本实施例的一种物理天平,包括底座1,底座1的上方中间位置处安装 有支柱2,支柱2的顶部设有横梁3,横梁3上设有游码4,横梁3的左右 两侧分别设有边刀托5,横梁3的中间位置处安装有中刀托6,两个边刀托 5上均挂设有秤盘7,支柱2的下方安装有度盘8,中刀托6上设有指针9, 底座1的底部安装有用于调节平衡的平衡螺母10,两个秤盘7的正下方均 设有与秤盘7配合使用的圆形通孔11,底座1的下表面中间位置处安装有 圆柱形支架12,圆柱形支架12的外部套设有支筒13,支筒13的外壁上安 装有水平支撑台面14,支撑台面14的顶部与平衡螺母10的底部相接触, 底座1的上方安装有支杆16,支杆16上安装有杯托盘17;为了提高稳固 性,支筒13的口径自上而下依次递增;底座1的宽度方向左右两侧均安装 有滑动轨道18,两个滑动轨道18内均嵌设有滑动条19,滑动条19的一侧 位于滑动轨道18外部,滑动条19位于滑动轨道18外部的一侧安装有垂直 挡板15,其中一个垂直挡板15的顶部通过连接轴20连接有可翻转的水平 挡板21,水平挡板21的一端搭设于另一个垂直挡板15的顶部。

若是平时不使用时,可以将两个滑动条19分别插于左右两侧的滑动轨 道18内,即可将两个垂直挡板15固定于底座1的左右两侧,然后翻转水 平挡板21,使水平挡板21的一端搭于一侧的垂直挡板15上,即可形成一 个保护空间,防止物理天平被损坏,使用时,若是想提高物理天平的高度, 可以将支筒13套设于圆柱形支架12上,两个平衡螺母10的底部与支撑台 面14相接触,从而可以调节底座1的水平。

上所述仅为本实用新型的较佳实施例,并不用以限制本实用新型,凡 在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等, 均应包含在本实用新型的保护范围之内。

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