[发明专利]一种光气气相法连续生产HDI的喷嘴

说明书

本发明提出了一种光气气相法连续生产HDI的喷嘴，包括从内到外依次设置的第一喷道、第二喷道及第三喷道，三个喷道的前后各自设有喷嘴喷口和喷嘴入口，所述第一喷道的喷嘴喷口用于喷射己二胺，所述第二喷道的喷嘴喷口用于喷射氮气，所述第三喷道的喷嘴喷口用于喷射光气。本发明利用氮气保护喷嘴，使喷嘴运行过程中不发生堵塞，保证反应能快速稳定进行，持续时间长，能够工业化生产。

技术领域

本发明涉及化工领域，特别是指一种光气气相法连续生产HDI的喷嘴。

背景技术

光气气相法制备HDI其核心是反应器，其中喷嘴又是反应器的重中之重，如何确保生产过程中喷嘴不堵塞实现连续运行是保证生产能否长时间运行的关键点。

发明内容

有鉴于此，本发明提出了一种光气气相法连续生产HDI的喷嘴，解决喷嘴容易堵塞，不能长时间运行的问题。

为解决上述技术问题，本发明采用以下技术方案予以实现：

一种光气气相法连续生产HDI的喷嘴，包括从内到外依次设置的第一喷道、第二喷道及第三喷道，三个喷道的前后各自设有喷嘴喷口和喷嘴入口，所述第一喷道的喷嘴喷口用于喷射己二胺，所述第二喷道的喷嘴喷口用于喷射氮气，所述第三喷道的喷嘴喷口用于喷射光气，第二喷道的喷嘴喷射的氮气用于对喷嘴进行保护，同时稀释己二胺，避免己二胺与光气生产盐类物质或者聚合体附在喷嘴出口及周边，防止喷嘴被堵塞，延长喷嘴运行时间。

作为优选地，所述第一喷道和第二喷道都具有缩小段，所述第三喷道具有扩大段，喷嘴整体外径大小不变。

与现有技术相比，本发明具有的有益效果为：本发明利用氮气保护喷嘴，使喷嘴运行过程中不发生堵塞，保证反应能快速稳定进行，持续时间长，能够工业化生产。

附图说明

图1为本发明优选实施例的结构示意图；

图2为本发明优选实施例的喷嘴的喷口端正视示意图。

具体实施方式

为让本领域的技术人员更加清晰直观的了解本发明，下面将结合附图，对本发明作进一步的说明。

如图1-2所示为本发明的优选实施例。

一种光气气相法连续生产HDI的喷嘴，包括从内到外依次设置的第一喷道1、第二喷道2及第三喷道3，三个喷道的前后各自设有喷嘴喷口和喷嘴入口，第一喷道1的喷嘴喷口用于喷射己二胺，第二喷道2的喷嘴喷口用于喷射氮气，第三喷道3的喷嘴喷口用于喷射光气，第二喷道2的喷嘴喷射的氮气用于对喷嘴进行保护，同时稀释己二胺，避免己二胺与光气生产盐类物质或者聚合体附在喷嘴出口及周边，防止喷嘴被堵塞，延长喷嘴运行时间。

具体地，本实施例中，第一喷道1和第二喷道2都具有缩小段，第三喷道3具有扩大段，喷嘴整体外径大小不变。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。