[发明专利]一种印染废水处理工艺在审
申请号: | 201611262567.1 | 申请日: | 2016-12-30 |
公开(公告)号: | CN106630472A | 公开(公告)日: | 2017-05-10 |
发明(设计)人: | 童燕飞;韩建平;史仕波;祝福;施耀;刘忠桂 | 申请(专利权)人: | 四川亿龙环保工程有限公司 |
主分类号: | C02F9/14 | 分类号: | C02F9/14;C02F103/30 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 614001 四川省乐山市*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 印染 废水处理 工艺 | ||
1.一种印染废水处理工艺,其特征在于,包括以下过程:
(1)预理过程,除去废水中的杂质,并在一定程度上进行脱色处理,降低后续处理过程的负荷:
机械格栅截留废水中的粗大悬浮物和漂浮物;
经过机械格栅的印染废水通入沉砂调节池,通过水下搅拌装置进行搅拌混合,调匀水量水质为后续处理提供连续均质的水量;
将经过沉砂调节池的废水通入脱色沉淀池,并向废水内加絮凝剂、调节废水的PH值在8~9,絮凝剂与呈乳状的有机胶体微粒及悬浮物反应产生大颗粒絮团,脱色沉淀池沉淀去除絮团;所述脱色沉淀池为斜管沉淀池;
将经过脱色沉淀池沉淀的废水通入涡凹气浮机,向涡凹气浮机内投加絮凝剂和氧化脱色剂,通过集混凝、反应、气浮沉淀的涡凹气浮机处理后,对脱色沉淀池没去除的细小絮团及纤维物质进行进一步去除;
(2)生化处理过程,将废水中的有机污染物进行降解:
经过涡凹气浮机的废水进入水解酸化池,水解酸化池内的水解酸化菌将大分子的有机污染物分解为小分子的有机物,将难降解的有机污染物分解为易降解的有机物;
水解酸化池的废水自流进入缓冲池,在缓冲池内进行缓冲,缓冲池为平流式沉淀池;
缓冲池的上层清液被泵提升至EGSB厌氧反应器内,EGSB厌氧反应器的颗粒厌氧污泥将废水中的大部分有机污染物最终分解为甲烷、水、二氧化碳和有机酸;
经EGSB厌氧反应器处理的废水进入接触氧化池,接触氧化池内的生物好氧菌对废水进行生物降解,降低BOD和COD,将易降解的有机物转化为二氧化碳和水去除;
废水经过接触氧化池后进入MBBR反应池,MBBR反应池内投加有固着生物膜的高效填料,填料表面的生物好氧膜将废水中的有机降解污染物进一步去除;
将经过MBBR反应池的废水通入二次沉淀池,沉淀菌胶体和悬浮物,使废水清澈,所述二次沉淀池为辐流式沉淀池;
(3)深度处理过程,进一步地去除废水中的杂质、有机污染物和色度:
将经过二次沉淀池的废水通入高效浅层气浮机进行深度处理,在高效浅层气浮机中投加絮凝剂,与废水中难降解的物质生成絮状物,进一步降低生化废水中的COD;
经高效浅层气浮机处理的废水通入集水池备用,集水池的废水在加压水泵的作用下通过纤维球过滤器后通入投入了氧化脱色剂的氧化脱色池内进行氧化脱色处理。
2.根据权利要求1所述的一种印染废水处理工艺,其特征在于,所述的絮凝剂的成分包括:硫酸亚铁、聚丙烯酰胺、木质磺酸盐、明矾和聚合聚铁硅。
3.根据权利要求2所述的一种印染废水处理工艺,其特征在于,所述絮凝剂成分的重量比为:硫酸亚铁5~10份、聚丙烯酰胺3~8份、木质磺酸盐2~5份、明矾3~7份、聚合聚铁硅2~5份、聚氯化硫酸铁4~10份、动物胶2~5份、藻朊酸钠4~8份。
4.根据权利要求3所述的一种印染废水处理工艺,其特征在于,所述絮凝剂成分的重量比为:硫酸亚铁8份、聚丙烯酰胺6份、木质磺酸盐4份、明矾5份、聚合聚铁硅3份、聚氯化硫酸铁6份、动物胶3份、藻朊酸钠5份。
5.根据权利要求1所述的一种印染废水处理工艺,其特征在于,还包括污泥处理过程:
高效浅层气浮机和涡凹气浮机的刮渣污泥在污泥泵的作用下进入污泥浓缩池;
脱色沉淀池、沉砂调节池和二次沉淀池的一部分污泥进入污泥浓缩池;
二次沉淀池的另一部分污泥回流至接触氧化池、EGSB反应器和MBBR反应池;
缓冲池池底污泥回流至水解酸化池;
污泥浓缩池内的污泥经板框压滤机压成泥饼后外运。
6.根据权利要求1所述的一种印染废水处理工艺,其特征在于,废水在脱色沉淀池沉淀2h;废水在水解酸化池停留5.52h;废水在缓冲池停留1.25h;废水在EGSB反应器内停留28.14h;废水在接触氧化池停留15.78h;废水在MBBR池停留12h;废水在二次沉淀池停留3h;废水在集水池停留1.25h;废水在浅层气浮机中停留0.3h;废水在氧化脱色池停留1.25h。
7.根据权利要求4所述的一种印染废水处理工艺,其特征在于,所述絮凝剂的总投加量为200mg/L。
8.根据权利要求1所述的一种印染废水处理工艺,其特征在于,所述EGSB厌氧反应器内的厌氧菌数量保持在8000mg/L。
9.根据权利要求1所述的一种印染废水处理工艺,其特征在于,所述接触氧化池内的好氧菌数量保持在4000mg/L。
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