[发明专利]一种反应釜的搅拌装置

说明书

技术领域

本发明属于反应釜制造加工技术领域，特别是一种反应釜的搅拌装置。

背景技术

目前的反应釜搅拌结构与反应釜本体是分离的，这导致搅拌结构容易形变，而且距离反应釜内壁近的部分搅拌材料会因为搅拌动力不足而黏贴在反应釜内壁上。

现有技术中公开号为CN202590790U的公开文件公开了一种反应釜搅拌装置，包括反应釜，反应釜的中心轴位置设有搅拌轴，搅拌轴上轴向等距离设有搅拌支架，在所述的脚板支架上径向由内至外依次设有内螺带、中裸带、外螺带。上述两个问题是这种现有搅拌结构最大的问题。

拥有上述两个问题的现有技术还包括公开号为CN103406085B的公开文件，该公开文件公开了一种反应釜，包括釜体，所述釜体上装有设有进料口的釜盖，所述釜盖上设有搅拌装置，所述搅拌装置包括搅拌轴和套设在所述搅拌轴上的搅拌框，所述搅拌框由弧形的搅拌杆和连接在所述搅拌杆两端的竖直搅拌杆构成，在两根所述竖直搅拌杆之间设有多块斜置的搅拌桨，所述搅拌桨的板面和水平面之间夹角a为55°-65°。

发明内容

本发明的目的是为了使得反应釜内的搅拌结构形状稳定，且能对内部的搅拌物搅拌均匀。

本发明的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：一种反应釜的搅拌装置，包括反应釜本体和伸入所述反应釜本体内的转轴，其特征在于，所述转轴上连接有搅拌轴，所述搅拌轴上固定连接有若干均匀竖直排列的搅拌单元，所述搅拌单元端部伸入所述反应釜本体内表面并且在所述反应釜本体内移动。

作为优选，所述搅拌单元包括至少两片搅拌叶。

作为优选，所述反应釜本体内设置内层，所述内层包括若干内层单元，所述内层单元之间形成容纳所述搅拌叶端部的内环槽道。

作为优选，所述搅拌叶端部与所述内环槽道之间设置有限位结构。

作为优选，所述限位结构包括设置在所述搅拌叶端部的限位片和与所述限位片配合的限位边，所述限位边设置在所述内层单元上。

作为优选，所述内层单元包括调温介质夹套层和设置在所述调温介质夹套层表面的防残留光滑层。

作为优选，所述内环槽道表面覆盖有所述防残留光滑层。

作为优选，所述搅拌叶端部与所述内环槽道之间设置有限定结构，所述限定结构包括设置在所述搅拌叶端部的限定片和与所述限定片配合的限定边，所述防残留光滑层构成所述限定边。

综上所述，本发明通过将搅拌叶伸入反应釜内表面来开控制搅拌叶的上下浮动，因为搅拌叶上下浮动会牵引转轴的摆动，使得转轴的寿命降低，而且会引起整个反应釜在动作的时候产生较大的振动。多片搅拌叶的设置是的搅拌更加均匀，而且如果搅拌叶以转轴为中心，中心对称设置能起到稳定转轴的效果。内层的设置增加了壁厚，在对搅拌叶限位的同时还起到了静音，恒温的效果。内层和搅拌叶配合还起到了对内表面进行残留清理的作用，使得整个反应釜内搅拌均匀，且保证零残留。

附图说明

图1是本发明的整体结构图；

图2是本发明整体结构的中部剖视图；

图3是本发明在中心轴处的侧视剖视图；

图4是本发明的搅拌轴的整体结构示意图；

图1、图2、图3和图4中，1-反应釜本体，2-转轴，3-搅拌轴，4-搅拌单元，1C-搅拌叶，1A-内层，11A-内层单元,12A-内环槽道,13A-调温介质夹套层,14A-防残留光滑层,1B限位结构，11B-限位片，12B-限位边。

具体实施方式

以下结合附图1、2、3和4对本发明作进一步详细说明。

实施例一，一种反应釜的搅拌装置，包括反应釜本体1和伸入反应釜本体1内的转轴2，反应釜本体1呈一个罐状，且上下底面为一个向外凸起的球面，下底面可以向下启闭，在上地面中部设置有一个伸入反应釜本体1内部的带有电机的转轴2，转轴2上固定连接有搅拌轴3，搅拌轴3一直延伸到下底面与筒体交接处，在搅拌轴3上螺接有三个与水平面平行的搅拌单元4，每个搅拌单元4包括六个水平螺接在搅拌轴3上的搅拌叶1C。

反应釜本体1内设置内层1A，内层1A包括三个内层单元11A，内层单元11A通过螺钉固定在反应釜本体1内表面上，内层单元11A之间形成容纳搅拌叶1C端部的三个内环槽道12A。容纳搅拌叶1C端部与内环槽道12A之间设置有限位结构1B。限位结构1B包括设置在搅拌叶1C端部的限位片11B和与限位片11B配合的限位边12B，限位边12B设置在内层单元11A上。限位片11B与搅拌叶1C焊接而成。