[发明专利]影像捕获设备与其相位对焦的校正方法有效
申请号: | 201611217131.0 | 申请日: | 2016-12-26 |
公开(公告)号: | CN108243305B | 公开(公告)日: | 2020-12-15 |
发明(设计)人: | 李运锦;曾家俊;张文彦 | 申请(专利权)人: | 聚晶半导体股份有限公司 |
主分类号: | H04N5/232 | 分类号: | H04N5/232 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 马雯雯;臧建明 |
地址: | 中国台湾新竹科学*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 影像 捕获 设备 与其 相位 对焦 校正 方法 | ||
1.一种相位对焦的校正方法,适用于具有一镜头的一影像捕获设备,其特征在于,所述方法包括:
执行一对比对焦程序,而将所述镜头移动至多个镜头位置,并获取多个对焦值的一统计分布与一最佳对焦位置;
依据所述对焦值的所述统计分布,判断是否校正用于一相位对焦程序的一相位线性关系;
若判定校正用于所述相位对焦程序的所述相位线性关系,取得当所述镜头位于所述镜头位置中的一个时所检测到的一第一相位差,并取得当所述镜头位于所述镜头位置的中的另一个时所检测到的一第二相位差;
依据所述镜头位置中的一个与所述最佳对焦位置之间的第一镜头偏移量、对应所述镜头位置中的一个的所述第一相位差、所述镜头位置中的另一个与所述最佳对焦位置之间的第二镜头偏移量,以及对应所述镜头位置中的另一个的所述第二相位差,计算一第一修正斜率;以及
依据所述第一修正斜率修正多个镜头偏移量与多个相位差之间所述相位线性关系。
2.根据权利要求1所述的相位对焦的校正方法,其特征在于,在执行所述对比对焦程序的步骤之前,所述方法还包括:
依据所述相位线性关系执行所述相位对焦程序,以依据所述相位对焦程序将所述镜头移动至一暂时对焦位置,
其中执行所述对比对焦程序的步骤包括:
响应于所述镜头移动至所述暂时对焦位置,开始执行所述对比对焦程序,以获取所述对焦值的所述统计分布与所述最佳对焦位置。
3.根据权利要求2所述的相位对焦的校正方法,其特征在于,所述镜头位置中的一个为基于所述对比对焦程序而获取的所述最佳对焦位置,所述最佳对焦位置对应至所述对焦值中的最大值。
4.据权利要求1所述的相位对焦的校正方法,其特征在于,依据所述对焦值的所述统计分布,判断是否校正用于所述相位对焦程序的所述相位线性关系的步骤包括:
取得所述统计分布的一统计特性,并判断所述统计特性是否符合一预设条件;
若所述统计特性符合所述预设条件,决定校正用于所述相位对焦程序的所述相位线性关系;以及
若所述统计特性不符合所述预设条件,决定不校正用于所述相位对焦程序的所述相位线性关系。
5.根据权利要求4所述的相位对焦的校正方法,其特征在于,所述统计特性包括一统计变异量,所述预设条件包括是否大于一门槛值。
6.根据权利要求1所述的相位对焦的校正方法,其特征在于,依据所述第一修正斜率修正所述镜头偏移量与所述相位差之间所述相位线性关系的步骤包括:
获取一参考基准斜率;
依据所述第一修正斜率与所述参考基准斜率的差值,调整所述参考基准斜率而获取一第二修正斜率;以及
利用所述第二修斜率修正所述相位线性关系。
7.根据权利要求6所述的相位对焦的校正方法,其特征在于,所述参考基准斜率包括一工厂预设斜率,或不同时间点的多个历史相位线性关系的多个历史工作斜率的统计值。
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