[发明专利]一种非球面检测光路中光学间隔测量系统及方法有效

专利信息
申请号: 201611192915.2 申请日: 2016-12-21
公开(公告)号: CN106767471B 公开(公告)日: 2022-12-27
发明(设计)人: 付西红;李华;马娜娜;刘杰;宋冲;李硕 申请(专利权)人: 中国科学院西安光学精密机械研究所
主分类号: G01B11/14 分类号: G01B11/14
代理公司: 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 代理人: 汪海艳
地址: 710119 陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 球面 检测 光路中 光学 间隔 测量 系统 方法
【权利要求书】:

1.一种非球面检测光路中光学间隔测量系统,其特征在于:包括沿光路依次设置的镜面定位仪、十字分化板、Offner补偿器、被测非球面镜;还包括五维调整架二、五维调整架三、五维调整架四和五维调整架五;

所述镜面定位仪放置在五维调整架五上,所述十字分化板放置在五维调整架四上,所述Offner补偿器放置在五维调整架二上,所述被测非球面镜放置在五维调整架三上;

所述镜面定位仪、十字分化板、Offner补偿器和被测非球面镜组成的光路与被测非球面镜的最佳面形检测光路共光轴;激光干涉仪、Offner补偿器和被测非球面镜共轴所形成被测非球面镜的最佳面形检测光路;

所述镜面定位仪与十字分化板之间的距离大于镜面定位仪的工作距;

所述镜面定位仪和PC机连接。

2.根据权利要求1所述的非球面检测光路中光学间隔测量系统,其特征在于:所述镜面定位仪的光学间隔测量精度为1μm。

3.根据权利要求1所述的非球面检测光路中光学间隔测量系统,其特征在于:所述十字分化板包括中心圆环,所述中心圆环的直径为0.5mm,中心圆环与十字分化板的外圆同心度为φ0.05mm。

4.一种光学间隔精密测量方法,其特征在于:包括以下步骤:

步骤一:根据被测的非球面镜,计算检测光路图,按照该光路图搭建最佳面形检测光路;

1.1:沿光路依次设置激光干涉仪、Offner补偿器和被测非球面镜,激光干涉仪的标准镜头的焦点O1和Offner补偿器的透镜一之间的距离为L1,Offner补偿器的透镜一和透镜二之间的距离为L2,Offner补偿器的透镜二和被测非球面镜之间的距离为L3

1.2:将所述激光干涉仪、Offner补偿器和被测非球面镜分别放置在五维调整架一、五维调整架二和五维调整架三上,通过五维调整架一、五维调整架二、五维调整架三分别调整激光干涉仪、Offner补偿器和被测非球面镜,使得激光干涉仪、Offner补偿器和被测非球面镜共轴,形成最佳面形检测光路,该轴即为最佳面形检测光路光轴;

步骤二:将固定在五维调整架四上的十字分划板放置在激光干涉仪标准镜头的焦点O1附近,调整五维调整架四,使十字分划板的中心圆环位于最佳面形检测光路光轴上;

步骤三:移走激光干涉仪和五维调整架一,将固定在五维调整架五上的镜面定位仪放置在十字分划板的前端,镜面定位仪和十字分划板之间的距离大于镜面定位仪的工作距;

调整五维调整架五使镜面定位仪出射的激光光束垂直入射到十字分划板上的中心圆环,观察PC机上的间隔测量界面,当各个光学表面出现干涉信号且信号峰值最高时开始测量光学间隔;

步骤四:测量得出十字分划板的厚度O1O3=d1、十字分划板与offner补偿器的透镜一两者之间空气间隔O3O4=d2、offner补偿器的透镜一的中心厚度O4O5=d3、offner补偿器的透镜一与透镜二两者之间空气间隔O5O6=d4、offner补偿器的透镜二的中心厚度O6O7=d5、offner补偿器的透镜二与被测非球面镜两者之间空气间隔O7O2=d6,由此可得:L1=d1+d2、L2=d3+d4+d5、L3=d6;其中L1、L2、和L3为L1、L2、和L3的实际测量值;

步骤五:将L1、L2、和L3测量值代入光学设计软件进行复算可得顶点曲率半径R、二次常数K几何参数值。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院西安光学精密机械研究所,未经中国科学院西安光学精密机械研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201611192915.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top