[发明专利]对包含铜及钼的多层薄膜进行蚀刻的液体组合物及使用其的蚀刻方法及显示装置的制造方法

权利要求书

1.一种液体组合物，其特征在于，是用于对包含由以铜为主成分的物质形成的铜层及由以钼为主成分的物质形成的钼层的多层薄膜进行蚀刻的液体组合物，所述液体组合物包含(A)过氧化氢3～9质量％、(B)酸6～20质量％、(C)碱化合物1～10质量％、及(D)咖啡因0.1～4质量％，并且pH值为2.5～5.0，其中，所述碱化合物不包括咖啡因，

在所述液体组合物中溶解铜10000ppm和钼500ppm、且在35℃下保存60分钟后的、由下式所定义的所述液体组合物中所含的过氧化氢的浓度降低值为1质量％以下：

过氧化氢的浓度降低值＝保存前的过氧化氢浓度-保存后的过氧化氢浓度。

2.根据权利要求1所述的液体组合物，其中，所述(B)酸不包括含有氟的酸。

3.根据权利要求1或2所述的液体组合物，其中，所述(B)酸仅含有有机酸。

4.根据权利要求1或2所述的液体组合物，其中，还包含0.1～20000ppm的量的铜及0.1～1000ppm的量的钼中的任一者或两者。

5.根据权利要求1或2所述的液体组合物，其中，在所述液体组合物中溶解铜10000ppm和钼500ppm、且在35℃下保存60分钟后的、由所述式所定义的所述液体组合物中所含的过氧化氢的浓度降低值为0.3质量％以下。

6.根据权利要求1或2所述的液体组合物，其中，所述(B)酸包含选自由琥珀酸、乙醇酸、乳酸、丙二酸及苹果酸组成的组中的1种以上的有机酸。

7.根据权利要求1或2所述的液体组合物，其中，所述(C)碱化合物包含选自由具有直链状或支链状的碳数1～6的烷基的烷基胺、链烷醇胺、二胺、环状胺类及烷基氢氧化铵组成的组中的1种以上，其中，所述直链状或支链状的碳数1～6的烷基不包括链状的己基。

8.根据权利要求1或2所述的液体组合物，其中，所述(C)碱化合物包含选自由四甲基氢氧化铵、N,N-二乙基-1,3-丙二胺及1-氨基-2-丙醇组成的组中的1种以上。

9.一种多层薄膜的蚀刻方法，其包含使液体组合物与多层薄膜接触的工序，所述多层薄膜包含由以铜为主成分的物质形成的铜层及由以钼为主成分的物质形成的钼层，所述液体组合物含有(A)过氧化氢3～9质量％、(B)酸6～20质量％、(C)碱化合物1～10质量％、及(D)咖啡因0.1～4质量％，并且pH值为2.5～5.0，其中，所述碱化合物不包括咖啡因，

在所述液体组合物中溶解铜10000ppm和钼500ppm、且在35℃下保存60分钟后的、由下式所定义的所述液体组合物中所含的过氧化氢的浓度降低值为1质量％以下：

过氧化氢的浓度降低值＝保存前的过氧化氢浓度-保存后的过氧化氢浓度。

10.根据权利要求9所述的蚀刻方法，其中，所述(B)酸不包括含有氟的酸。

11.根据权利要求9或10所述的蚀刻方法，其中，所述液体组合物还包含0.1～20000ppm的量的铜及0.1～1000ppm的量的钼中的任一者或两者。

12.一种显示装置的制造方法，其包含进行使液体组合物与层叠于基板上的多层薄膜在20℃～60℃下接触10～300秒钟的接触处理的工序，所述多层薄膜包含由以铜为主成分的物质形成的铜层及由以钼为主成分的物质形成的钼层，所述液体组合物含有(A)过氧化氢3～9质量％、(B)酸6～20质量％、(C)碱化合物1～10质量％、及(D)咖啡因0.1～4质量％，并且pH值为2.5～5.0，其中，所述碱化合物不包括咖啡因，

在所述液体组合物中溶解铜10000ppm和钼500ppm、且在35℃下保存60分钟后的、由下式所定义的所述液体组合物中所含的过氧化氢的浓度降低值为1质量％以下：

过氧化氢的浓度降低值＝保存前的过氧化氢浓度-保存后的过氧化氢浓度。