[发明专利]致密储层微观孔隙结构的表征方法

说明书

本发明提供一种致密储层微观孔隙结构的表征方法，该致密储层微观孔隙结构的表征方法包括：步骤1，进行压汞实验数据处理；步骤2，利用处理后的数据，绘制喉道半径与区间汞饱和度频率的直方图；步骤3，根据喉道半径与区间汞饱和度频率直方图，选取主峰峰值半径R_f；步骤4，进行压汞数据截取处理；步骤5，计算喉道与孔隙配置系数，利用压汞实验特征数据，求取喉道半径与对应区间汞饱和度乘积之和，作为喉道与孔隙的配置系数。该发明为致密储层微观孔隙结构评价提供了一种可行方法，在致密油藏开发方式选择、开发效果评价及储层评价中有很大的应用前景。

技术领域

本发明涉及致密储层评价领域，特别是涉及到一种致密储层微观孔隙结构的表征方法。

背景技术

致密储层物性差，主要受微观孔隙结构的影响，其开发效果、开发方式等都受微观孔隙结构的较大影响，如何表征致密储层的微观孔隙结构特征是致密储层描述的重点。中高渗储层喉道粗，孔隙大、多，喉道与孔隙连通程度高，对微观孔隙结构的表征主要关注喉道的大小。但致密储层存在孔隙少、喉道细、喉道与孔隙连通程度差的基本特征，影响其开发方式和开发效果的主要是喉道半径大小及喉道与孔隙的连通程度。致密储层的微观孔隙结构表征不仅要描述喉道大小、分布，更要描述喉道与孔隙的配置关系。本发明主要从描述喉道与孔隙的配置关系出发，提出了一种新的描述致密储层微观孔隙结构的方法，丰富了目前微观孔隙结构的表征参数。

发明内容

本发明的目的是提供一种针对致密储层微观孔隙结构表征的参数和方法，特别是在描述喉道与孔隙的配置关系方面。

本发明的目的可通过如下技术措施来实现：致密储层微观孔隙结构表征方法，该致密储层微观孔隙结构的表征方法包括：步骤1，进行压汞实验数据处理；步骤2，利用处理后的数据，绘制喉道半径与区间汞饱和度频率的直方图；步骤3，根据喉道半径与区间汞饱和度频率直方图，选取主峰峰值半径R_f；步骤4，进行压汞数据截取处理；步骤5，计算喉道与孔隙配置系数，利用压汞实验特征数据，求取喉道半径与对应区间汞饱和度乘积之和，作为喉道与孔隙的配置系数。

本发明的目的还可通过如下技术措施来实现：

在步骤1中，基于岩心室内压汞实验得到的原始数据，得出每个喉道半径对应的区间汞饱和度：

ΔSg_i＝Sg_i-Sg_i-1

式中：ΔSg_i为区间汞饱和度，％；Sg_i为i数据点对应的累计汞饱和度，％；Sg_i-1为i-1数据点对应的累计汞饱和度，％，Sg₀＝0；

从而计算区间汞饱和度频率：

式中：P_Sgi为区间汞饱和度频率，％；ΔSg_i为区间汞饱和度，％；Sg为累计汞饱和度，％。

在步骤2中，根据步骤1中得到的压汞实验处理数据，绘制以喉道半径为横坐标，以与之对应的区间汞饱和度频率为纵坐标的频率直方图。

在步骤3中，根据步骤2绘制的频率直方图特征，选取主峰峰值对应的喉道半径，作为主峰峰值半径R_f，表征与孔隙连通最好的喉道半径的大小。

在步骤4中，在步骤1得到的处理数据基础上，以区间汞饱和度频率1％为截断值，舍弃区间汞饱和度频率小于1％的数据点，得到代表微观孔隙结构特征的特征数据，以消除统计过程中小概率数据对统计结果的影响，降低对微观孔隙结构特征的错误判断。

在步骤5中，利用步骤4得到的特征数据，计算致密储层微观孔隙结构喉道与孔隙配置关系系数：