[发明专利]一种抗吸附扩散膜在审
| 申请号： | 201611159428.6 | 申请日： | 2016-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN106597584A | 公开（公告）日： | 2017-04-26 |
| 发明（设计）人： | 沈巍 | 申请（专利权）人： | 张家港康得新光电材料有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/02 | 分类号： | G02B5/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215634 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 吸附 扩散 | ||
1.一种抗吸附扩散膜，其特征在于：包括
一基材；
至少一扩散复合层，设置于所述基材的一侧，所述扩散复合层包括扩散粒子和抗吸附粒子，所述抗吸附粒子形成表面凸起，所述表面凸起的高度为4-10μm。
2.根据权利要求1所述的抗吸附扩散膜，其特征在于：所述表面凸起的高度为4-6μm。
3.根据权利要求1所述的抗吸附扩散膜，其特征在于：所述扩散复合层包括一第一基质层和至少部分嵌入该第一基质层的扩散粒子和至少部分析出该第一基质层表面形成凸起的抗吸附粒子。
4.根据权利要求3所述的抗吸附扩散膜，其特征在于：所述第一基质层的厚度为10-20μm。
5.根据权利要求1所述的抗吸附扩散膜，其特征在于：所述扩散复合层包含一扩散层，一抗吸附层，所述扩散层设置于基材的一侧，所述抗吸附层设置于扩散层远离基材的一侧，所述扩散层包括一第三基质层和至少部分嵌入该第三基质层的所述扩散粒子，所述抗吸附层包括一第四基质层和至少部分析出基质层表面形成凸起的所述抗吸附粒子。
6.根据权利要求5所述的抗吸附扩散膜，其特征在于：所述扩散复合层中的第三基质层的厚度为3-10μm，第四基质层的厚度为10-20μm。
7.根据权利要求1所述的抗吸附扩散膜，其特征在于：所述扩散复合层中的扩散粒子的粒径为3-8μm。
8.根据权利要求1所述的抗吸附扩散膜，其特征在于：所述扩散复合层中的抗吸附粒子的粒径为10-20μm。
9.根据权利要求1所述的抗吸附扩散膜，其特征在于所述扩散复合层远离基材一侧的粗糙度Ra值为0.3-0.4μm。
10.根据权利要求1所述的抗吸附扩散膜，其特征在于所述基材远离扩散复合层的一侧更包括一扩散复合层或一棱镜层或一扩散层。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于张家港康得新光电材料有限公司，未经张家港康得新光电材料有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201611159428.6/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种形成光学分光透镜的结构和方法
- 下一篇：一种微棱镜型反光膜及其制作方法
